ST0058 Bersaglio di sputtering di zinco (Zn)

Descrizione del target di sputtering di zinco (Zn)

Il target di sputtering di zinco (Zn) è un materiale di qualità superiore sviluppato specificamente per la deposizione di film sottili mediante tecniche di sputtering in corrente continua. Prodotto sotto rigorosi controlli di qualità, la sua elevata purezza (≥99%) e le forme personalizzabili garantiscono prestazioni ottimali per la microelettronica, i dispositivi optoelettronici e i rivestimenti decorativi. Questo target presenta un punto di fusione e una densità costanti, che lo rendono la scelta ideale per ottenere risultati di sputtering affidabili in applicazioni industriali avanzate.

Applicazioni del target di sputtering di zinco (Zn)

- Microelettronica: Perfetto per depositare film sottili uniformi nella produzione di semiconduttori.
- Optoelettronica: Utilizzato nella fabbricazione di dispositivi ottici e sensori ad alta precisione.
- Rivestimenti decorativi: Fornisce eccellenti finiture superficiali per le finiture decorative dei metalli.
- Rivestimenti industriali: Ideali per rivestimenti protettivi che migliorano la resistenza alla corrosione e le proprietà di usura.

Imballaggio del bersaglio di sputtering di zinco (Zn)

I nostri target sputtering di zinco (Zn) sono confezionati in modo sicuro in contenitori protettivi e resistenti alla contaminazione. Le opzioni di imballaggio standard includono unità sigillate su misura, progettate per preservare l'integrità del target durante la spedizione e lo stoccaggio. Contattateci per avere soluzioni di imballaggio personalizzate in base alle vostre esigenze specifiche.

Domande frequenti

D: Quali settori industriali utilizzano comunemente i target sputtering di zinco (Zn)?
R: Sono ampiamente utilizzati in microelettronica, optoelettronica, rivestimenti decorativi e applicazioni industriali che richiedono la deposizione di film sottili di alta qualità.

D: Cosa si intende per sputtering in corrente continua nel contesto di questo prodotto?
R: Lo sputtering in corrente continua si riferisce all'uso di corrente continua per il processo di sputtering, spesso preferito per materiali conduttivi come lo zinco per ottenere una deposizione uniforme del film.

D: Come viene mantenuta l'elevata purezza (≥99%) del target di sputtering di zinco (Zn)?
R: Il materiale è sottoposto a un rigoroso controllo di qualità e a processi di purificazione avanzati durante la produzione per garantire che le impurità siano ridotte al minimo, preservandone l'elevata purezza.

D: È possibile ordinare forme e dimensioni personalizzate per il target di sputtering di zinco (Zn)?
R: Sì, oltre ai dischi standard, offriamo forme e dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: Quali sono i vantaggi principali dell'utilizzo di un target di sputtering di zinco (Zn) nella deposizione di film sottili?
R: Il target offre un'eccellente uniformità del film, un'elevata efficienza di deposizione e prestazioni affidabili in varie applicazioni di sputtering, garantendo rivestimenti di alta qualità e prestazioni dei dispositivi.