ST0058 Bersaglio di sputtering di zinco (Zn)

Name: ST0058 Zinc (Zn) Sputtering Target
SKU: ST0058
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Catalogo no.	ST0058
Composizione	Zn
Numero CAS	7440-66-6
La purezza	≥99% (99,99% / 99,999% disponibile)
Forma	Dischi o dischi personalizzati
Diametro	2", 3", 4", 5", 6" o personalizzato
Spessore	0,25", 0,125" o personalizzato
Tipo di obbligazione	Rame, o personalizzato
Sinonimi	Obiettivo di sputtering dello zinco, obiettivo dello zinco, obiettivo dello zinco di elevata purezza

Stanford Advanced Materials (SAM) fornisce target di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza per applicazioni di deposizione di film sottili che richiedono strati conduttivi affidabili. I target di zinco sono ampiamente utilizzati nella produzione di ossidi conduttivi trasparenti (TCO), in particolare per pannelli di visualizzazione, celle fotovoltaiche e dispositivi optoelettronici. I nostri target di zinco sono fusi sotto vuoto e lavorati con precisione per ottenere una struttura a grana fine e una densità relativa >99%, a supporto di prestazioni di sputtering DC costanti e di una deposizione uniforme del film. Disponibili in geometrie a disco standard o in configurazioni personalizzate, con opzioni di incollaggio in rame per una gestione termica ottimizzata.

Prodotti correlati: Bersaglio di sputtering AZO (ossido di zinco drogato con alluminio) | Bersaglio di sputtering ITO (ossido di indio-stagno) | Bersaglio di sputtering titanio (Ti)

Richiesta

Descrizione

Specificazione

SDS

Recensioni

FAQ

D: Di quale purezza di zinco ho bisogno per le applicazioni sulle celle solari?

A: Per la maggior parte delle applicazioni fotovoltaiche (CIGS, perovskite, CdTe), si consiglia una purezza del 99,99% (4N) o superiore. Una purezza inferiore può introdurre impurità che influiscono sulla mobilità dei portatori e riducono l'efficienza delle celle.

D: Cos'è l'AZO e perché è importante?

A: L'AZO (ossido di zinco drogato con alluminio) è un ossido conduttivo trasparente ottenuto per co-sputtering di zinco e alluminio. È sempre più utilizzato come alternativa a basso costo all'ITO (ossido di indio e stagno) nei display e nelle celle solari. Se avete intenzione di produrre film AZO, fatecelo sapere e potremo consigliarvi la giusta configurazione del target.

D: Gli obiettivi di zinco si ossidano durante lo stoccaggio?

A: Lo zinco può formare un sottile strato di ossido se esposto all'aria. Per questo motivo sigilliamo sottovuoto tutti i nostri target di zinco subito dopo la pulizia. Conservateli nella confezione sigillata fino al momento dell'uso e considerate un breve burn-in pre-sputter per rimuovere qualsiasi ossido superficiale.

D: Quale metodo di sputtering funziona meglio per lo zinco?

A: Lo zinco è conduttore, quindi lo sputtering in corrente continua funziona bene. Per i film di Zn puro, si raccomanda la corrente continua. Per lo sputtering reattivo (per la produzione di ZnO o AZO), in genere si usa la radiofrequenza o la corrente continua pulsata con gas di ossigeno.

D: Potete fornire un obiettivo con granulometria controllata?

A: Sì, possiamo controllare la dimensione dei grani durante il processo di produzione. La granulometria fine (<100 μm) è consigliata per la maggior parte delle applicazioni di sputtering per garantire un'erosione uniforme. Si prega di specificare i requisiti al momento dell'ordine.

D: Offrite obiettivi in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO)?

A: Sì, offriamo obiettivi AZO con varie concentrazioni di drogaggio (in genere 1-3% di Al₂O₃). Contattateci per le vostre esigenze specifiche.

ULTIMO RACCOMANDATO

ST0001 Target di sputtering in alluminio (Al)

ST0003 Bersaglio di sputtering al bario (Ba)

ST0005 Bersaglio di sputtering al boro (B)

ST0006 Target di sputtering al cadmio (Cd)

https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg

ST0007 Bersaglio di calcio (Ca) per sputtering

ST0009 Bersaglio sputtering al cromo (Cr)

ST0010 Bersaglio di sputtering al cobalto (Co)

ST0011 Bersaglio di sputtering in rame (Cu)

Richiedi un preventivo

Inviaci oggi stesso una richiesta per saperne di più e ricevere i prezzi più aggiornati. Grazie!

* Il suo nome

* La sua email

Per una rapida elaborazione, si prega di utilizzare l'indirizzo e-mail aziendale.

* Nome del prodotto

* Il vostro telefono

* Paese

Italia

Purity

Diameter

Thickness

Bonding

Commenti

Desidero iscrivermi alla mailing list per ricevere aggiornamenti da Stanford Advanced Materials.

Allegare i disegni:

Lasciare i file qui o

* Codice di controllo

Tipi di file accettati: PDF, png, jpg, jpeg. È possibile caricare più file contemporaneamente; ogni file deve avere una dimensione inferiore a 2 MB.

Materiale	Zinco (Zn)
Purezza	≥99% (99,99% / 99,999% disponibile su richiesta)
Numero CAS	7440-66-6
Colore/Aspetto	Grigio bluastro-argenteo
Punto di fusione	419.5°C
Densità	7,14 g/cm³
Resistività elettrica	5,9 µΩ-cm (a 20°C)
Tipo di sputtering	CC, RF
Processo di produzione	Fusione sotto vuoto + lavorazione di precisione
Dimensione dei grani	Controllata, struttura a grana fine
Densità relativa	>99%
Tipo di legame	Piastra di supporto in rame (è disponibile l'incollaggio con indio o elastomero)
Forma standard	Disco
Diametri standard	2", 3", 4", 5", 6"
Gamma di spessori	0,125", 0,25" o personalizzato
Imballaggio	Sigillato sotto vuoto in camera bianca

Area di applicazione	Uso specifico
Industria dei display	Elettrodi conduttivi trasparenti per pannelli LCD, OLED e touchscreen
Energia solare	Strati TCO per celle solari a film sottile (CIGS, CdTe, Perovskite)
Semiconduttori	Strati barriera, materiali elettrodici e transistor a film sottile
Rivestimenti ottici	Rivestimenti conduttivi trasparenti, strati antiriflesso
Settore automobilistico	Rivestimenti resistenti alla corrosione per componenti di precisione
Tecnologia dei sensori	Film piezoelettrici di ZnO per sensori di gas e dispositivi a onde acustiche
Ricerca e sviluppo	Ricerca sui materiali 2D, caratterizzazione di film sottili

Materiale	Zinco (Zn)
Purezza	≥99% (99,99% / 99,999% disponibile su richiesta)
Numero CAS	7440-66-6
Colore/Aspetto	Grigio bluastro-argenteo
Punto di fusione	419.5°C
Densità	7,14 g/cm³
Resistività elettrica	5,9 µΩ-cm (a 20°C)
Tipo di sputtering	CC, RF
Processo di produzione	Fusione sotto vuoto + lavorazione di precisione
Dimensione dei grani	Controllata, struttura a grana fine
Densità relativa	>99%
Tipo di legame	Piastra di supporto in rame (è disponibile l'incollaggio con indio o elastomero)
Forma standard	Disco
Diametri standard	2", 3", 4", 5", 6"
Gamma di spessori	0,125", 0,25" o personalizzato
Imballaggio	Sigillato sotto vuoto in camera bianca

ST0058 Bersaglio di sputtering di zinco (Zn)

Descrizione del target di sputtering di zinco (Zn)

Specifiche dei target di sputtering di zinco (Zn)

Applicazioni dei target sputtering di zinco (Zn)

Imballaggio dei target di sputtering di zinco (Zn)

Specificazione

SDS

Scheda di sicurezza

Cas

RECENSIONI DEI CLIENTI

FAQ

D: Di quale purezza di zinco ho bisogno per le applicazioni sulle celle solari?

D: Cos'è l'AZO e perché è importante?

D: Gli obiettivi di zinco si ossidano durante lo stoccaggio?

D: Quale metodo di sputtering funziona meglio per lo zinco?

D: Potete fornire un obiettivo con granulometria controllata?

D: Offrite obiettivi in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO)?

ULTIMO RACCOMANDATO

Richiedi un preventivo

HAI BISOGNO DI AIUTO?

CATEGORIE POPOLARI

LA NOSTRA AZIENDA