ST0412 Target di sputtering in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO)

Descrizione del target di sputtering in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO)

Il target di sputtering in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO) è progettato per garantire precisione e affidabilità nei processi di deposizione di film sottili avanzati. Prodotto con un'elevata purezza del ≥99%, questo target presenta una composizione di ZnO:Al₂O₃ per offrire una migliore conduttività elettrica e la trasparenza ottica necessaria per le applicazioni ad alte prestazioni. Il target è disponibile in forme di disco standardizzate o può essere personalizzato per soddisfare requisiti applicativi specifici. È ideale per le industrie che richiedono prestazioni superiori dei materiali nella produzione di semiconduttori, nelle tecnologie di visualizzazione e nei sistemi fotovoltaici.

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO)

- Deposizione di film sottili: Perfetto per la fabbricazione di film sottili di alta qualità nella produzione di semiconduttori e pannelli di visualizzazione.
- Fotovoltaico: utilizzato nella produzione di ossidi conduttivi trasparenti per applicazioni su celle solari.
- Dispositivi elettronici: Fornisce prestazioni migliori nei dispositivi optoelettronici grazie alle sue raffinate proprietà elettriche e ottiche.
- Processi di rivestimento: Ideale per i processi di sputtering in varie applicazioni di rivestimento industriale.

Imballaggio del target di sputtering in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO)

Il nostro target di sputtering in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO) è confezionato con cura per mantenere la sua elevata purezza e integrità strutturale durante il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti specifici di spedizione e movimentazione.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering AZO?
R: Viene utilizzato principalmente nei processi di deposizione di film sottili per i settori dei semiconduttori, dei display e del fotovoltaico.

D: In che modo la composizione ZnO:Al₂O₃ è vantaggiosa per il processo di sputtering?
R: La composizione ZnO:Al₂O₃ migliora la conducibilità elettrica e la trasparenza ottica, elementi fondamentali per le applicazioni di film sottili ad alte prestazioni.

D: In quali forme è disponibile il target di sputtering AZO?
R: Il target è disponibile in dischi standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti di produzione specifici.

D: Perché è importante un livello di purezza ≥99% per questo prodotto?
R: L'elevata purezza garantisce prestazioni costanti e riduce al minimo i difetti durante il processo di sputtering, portando a una qualità superiore del film.

D: L'imballaggio del target di sputtering AZO può essere personalizzato?
R: Sì, l'imballaggio può essere personalizzato per garantire una protezione ottimale e la conformità ai requisiti di spedizione.