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  • ITO0491 Targhette per sputtering all'ossido di indio-stagno (ITO)

    • ITO0491 Targhette per sputtering all'ossido di indio-stagno (ITO)

    Catalogo no. ITO0491
    Materiale 90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
    La purezza >=99.99%
    Numero CAS 50926-11-9
    Densità 7,1 g/cm3
    Punto di fusione 1565℃

    Depositato mediante magnetron o altre tecniche di sputtering, il target di ossido di indio-stagno (ITO) è utilizzato per i substrati rivestiti di ITO, compresi gli elettrodi per i display a schermo piatto, i contatti dei pannelli tattili, i vetri a risparmio energetico delle automobili e degli edifici, i dispositivi optoelettronici, i pannelli solari, ecc. Stanford Advanced Materials fornisce ai propri clienti target ITO di alta qualità e di diverse dimensioni.

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    NR1506 (Fuori Produzione) Polvere di nitruro di indio (InN) (n. CAS 25617-98-5)
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    VD0554 Materiali per l'evaporazione dell'indio (In)
    VD0623 Materiali per l'evaporazione di rame e indio (Cu/In)
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    VD0692 Materiali per l'evaporazione dell'ossido di indio (In2O3)
    VD0693 Materiali per l'evaporazione dell'ossido di indio e stagno (ITO)
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      0.25''

      • 0.25''
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