ST0197 Target per sputtering di biossido di titanio (TiO2)

Name: ST0197 Titanium Dioxide (TiO2) Sputtering Target
SKU: ST0197
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Catalogo no.	ST0197
Composizione	TiO₂
Numero CAS	13463-67-7
La purezza	99,5% / 99,9% / 99,99% (personalizzabile)
Forma	Dischi o dischi personalizzati
Diametro	2", 3", 4", 5", 6", o personalizzato
Spessore	0,25", 0,125" o personalizzato
Tipo di obbligazione	Rame, o personalizzato
Sinonimi	Obiettivo di sputtering al biossido di titanio, obiettivo TiO2

I target di sputtering al biossido di titanio (TiO2) sono disponibili in gradi di purezza dal 99,5% al 99,99%, con opzioni di fase cristallina rutilica o anatasica per soddisfare le vostre specifiche esigenze di film sottile. I nostri target sono prodotti utilizzando la tecnologia di pressatura a caldo per ottenere un'alta densità e una granulometria fine per prestazioni di sputtering stabili e costanti.

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Specificazione

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FAQ

D: Quali gradi di purezza sono disponibili per il target di sputtering TiO2?

A: Offriamo diversi gradi di purezza per soddisfare i diversi requisiti applicativi: 99,5% per applicazioni industriali generiche, 99,9% per componenti elettronici e 99,99% per semiconduttori e rivestimenti ottici di alta gamma. Su richiesta sono disponibili anche livelli di purezza personalizzati.

D: Quali metodi di sputtering sono applicabili con questo target?

A: il target è compatibile con le tecniche di sputtering RF e RF-R, offrendo flessibilità nei processi di deposizione di film sottili.

D: È possibile ordinare il bersaglio in forme e dimensioni personalizzate?

A: Sì, il bersaglio è disponibile sia in forma di disco standard che in forme personalizzate per soddisfare specifiche esigenze industriali.

D: In che modo l'elevato punto di fusione favorisce le prestazioni dell'obiettivo?

A: L'elevato punto di fusione di 1843℃ garantisce la stabilità termica durante lo sputtering ad alta potenza, riducendo il rischio di deformazione e prolungando la durata operativa del target’

D: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per mantenere la qualità del prodotto?

A: Si raccomanda di conservare l'obiettivo in un ambiente fresco e asciutto, possibilmente nella sua confezione sigillata sottovuoto, per evitare contaminazioni e preservarne l'elevata purezza.

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Parametro	Valore
Purezza	99,5% / 99,9% / 99,99% (personalizzabile)
Fase cristallina	Rutilo (standard), Anatasio (disponibile)
Densità teorica	4,23 g/cm³ (rutilo)
Densità effettiva	≥ 4,2 g/cm³ (≥ 99% di quella teorica)
Dimensione dei grani	≤ 10 µm
Forma	Disco, rettangolare o personalizzato
Diametro	2", 3", 4", 5", 6" (disponibile fino a 12")
Spessore	0,125", 0,25" (disponibile fino a 0,5")
Finitura superficiale	Rettificata, Ra ≤ 1,6 µm
Legame	Incollaggio all'indio su piastra di supporto in rame (standard)
Metodo di sputtering	RF, CC o CC pulsato

Parametro	Specifiche
Materiale	Biossido di titanio
Simbolo	TiO₂
Colore/Aspetto	Bianco, opaco
Punto di fusione	1843℃
Densità	4,23 g/cm³
Sputter	RF, RF-R
Tipo di legame	Indio, elastomero
Dimensioni disponibili	Personalizzati

ST0197 Target per sputtering di biossido di titanio (TiO2)

Descrizione del target di sputtering in biossido di titanio (TiO2)

Specifiche del target di sputtering in biossido di titanio (TiO2)

Applicazioni del target di sputtering al biossido di titanio (TiO2)

Imballaggio del target di sputtering al biossido di titanio (TiO2)

Specificazione

SDS

Scheda di sicurezza

Cas

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FAQ

D: Quali gradi di purezza sono disponibili per il target di sputtering TiO2?

D: Quali metodi di sputtering sono applicabili con questo target?

D: È possibile ordinare il bersaglio in forme e dimensioni personalizzate?

D: In che modo l'elevato punto di fusione favorisce le prestazioni dell'obiettivo?

D: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per mantenere la qualità del prodotto?

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