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ST7953 Bersaglio di sputtering al molibdeno (Mo) 99%, diametro. 2 pollici

Catalogo no. ST7953
Composizione Mo
La purezza 99%
Forma Obiettivo

Stanford Advanced Materials fornisce target di sputtering in molibdeno (Mo) con purezza del 99% e diametro di 2 pollici, progettati per la deposizione di film sottili in semiconduttori, schermi piatti e celle solari. I nostri target offrono prestazioni di sputtering affidabili, film sottili uniformi e risultati costanti in più cicli di rivestimento.

Ogni bersaglio è prodotto attraverso la metallurgia delle polveri, la forgiatura e la lavorazione di precisione, garantendo una microstruttura omogenea e risultati riproducibili. SAM offre anche dimensioni personalizzate e gradi di purezza più elevati (fino al 99,95%) su richiesta.

Prodotti correlati: Target di sputtering in boruro di molibdeno (Mo2B5), Target di sputtering in tantalio-molibdeno (Ta/Mo), Target di sputtering in silicio-molibdeno (MoSi)

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