ST7953 Target di sputtering al molibdeno 99%, diametro. 2 pollici

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 2 pollici Descrizione

Questo target di sputtering al molibdeno, con una purezza del 99% e un diametro di 2 pollici, è progettato per soddisfare i requisiti di alte prestazioni nella produzione avanzata. Riconosciuto per la sua eccezionale resistenza meccanica, l'elevato punto di fusione e la superiore conducibilità termica, il molibdeno si distingue in ambienti difficili dove l'affidabilità è fondamentale. Queste proprietà lo rendono una scelta ideale per i processi di deposizione di film sottili, in particolare nelle applicazioni di semiconduttori ed elettronica, dove precisione ed efficienza sono fondamentali.

Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, questo target di sputtering è sottoposto a rigorose ispezioni per garantire impurità minime, spessore uniforme e microstruttura coerente. Mantenendo uno stretto controllo sui parametri di produzione, fornisce tassi di sputtering altamente stabili e risultati riproducibili in più cicli di rivestimento. Che si tratti di dispositivi a semiconduttore, display a schermo piatto o componenti di celle solari, questo target di sputtering al molibdeno offre un equilibrio di purezza, prestazioni e coerenza essenziale per i progetti più critici.

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 2 pollici Applicazioni

I target di sputtering al molibdeno con purezza del 99% sono apprezzati per le loro robuste proprietà meccaniche e termiche, che li rendono ideali per la creazione di rivestimenti di alta qualità in vari settori. Con un diametro di 2 pollici, questi target producono film sottili eccezionalmente uniformi, mantenendo un'eccellente resistenza alla corrosione. Possiedono inoltre un'eccezionale conduttività elettrica e durezza, a sostegno di prestazioni superiori in applicazioni critiche che vanno dai dispositivi elettronici ai sistemi ottici avanzati.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: Sfrutta l'elevato punto di fusione e la stabilità del molibdeno per produrre film sottili con eccellente adesione e spessore uniforme.

- Sputtering con magnetron: Assicura una consistenza superiore del film e migliora la copertura del substrato grazie all'elevata densità e conduttività del molibdeno.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: Utilizza la bassa resistività e la stabilità termica del molibdeno per interconnessioni affidabili, migliorando le prestazioni complessive del dispositivo.

- Componenti elettronici: Beneficia della resistenza alla corrosione e della durata del molibdeno, mantenendo l'integrità in condizioni operative difficili.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Sfrutta la capacità del molibdeno di controllare con precisione il film, migliorando la chiarezza ottica.

- Rivestimenti a specchio: Utilizza la durezza e la riflettività del molibdeno per ottenere superfici a specchio altamente riflettenti e di lunga durata.

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 2 pollici Confezione

Il nostro target di sputtering al molibdeno (99%, diametro di 2 pollici) è imballato con cura per garantire la massima protezione. Ogni pezzo è avvolto singolarmente con schiuma protettiva, quindi sigillato sotto vuoto per evitare infiltrazioni di polvere e umidità. Per preservare la purezza durante l'immagazzinamento e il trasporto, viene aggiunto uno speciale strato antiossidante. L'imballaggio può essere personalizzato su richiesta, includendo un'etichettatura specifica, un'imbottitura aggiuntiva o dimensioni adattate alle vostre esigenze.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99%, Dia. 2 pollici FAQ

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 2 pollici?

A1: Il target di sputtering al molibdeno 99%, Dia. 2 pollici presenta un elevato punto di fusione (2.623°C) e un'eccellente conducibilità termica ed elettrica. Con un livello di purezza del 99%, offre un comportamento meccanico stabile e un'eccezionale resistenza alla corrosione in molti ambienti. La sua densità di circa 10,22 g/cm³ lo rende adatto alla deposizione di film sottili. La microstruttura omogenea del target garantisce tassi di sputtering uniformi, contribuendo a ottenere prestazioni di rivestimento affidabili e di alta qualità.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering al Mo?

A2: Questo bersaglio per sputtering al Mo viene generalmente prodotto attraverso un processo di metallurgia delle polveri seguito da forgiatura o laminazione per ottenere le dimensioni finali. La polvere di molibdeno di partenza viene compattata e sinterizzata ad alte temperature, garantendo densità e microstruttura ottimali. La successiva lavorazione e lucidatura perfeziona la finitura superficiale e la planarità dell'obiettivo. Queste accurate fasi di fabbricazione contribuiscono a mantenere la purezza del materiale e a promuovere prestazioni di sputtering costanti durante la deposizione di film sottili.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al target di sputtering al molibdeno 99%, Dia. 2 pollici?

A3: Questi target di sputtering al molibdeno sono spesso prodotti in base a rigorosi sistemi di garanzia della qualità, come l'ISO 9001, per garantire la coerenza e la tracciabilità del materiale. Possono anche essere conformi alle specifiche del settore, come l'ASTM B523 per le barre e le aste di molibdeno. I produttori di solito forniscono certificati di analisi che indicano la purezza, la densità e le proprietà meccaniche. Ispezioni e test rigorosi garantiscono prestazioni uniformi, risultati riproducibili e rivestimenti a film sottile affidabili.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo vengono utilizzati diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.