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ST11201 Bersaglio rotante al nichel, bersaglio Ni

Catalogo no. ST11201
Composizione Ni
La purezza ≥99,9%, o personalizzato
Forma Obiettivo
Forma Tubolare
Dimensioni Personalizzato

Il target rotante al nichel, Ni Target, è un target di sputtering ingegnerizzato in nichel elementare. Prodotto da Stanford Advanced Materials (SAM), questo prodotto è realizzato con un preciso controllo metallurgico e un'accurata tolleranza dimensionale per le applicazioni di sputtering. SAM impiega misurazioni dettagliate della densità e valutazioni microscopiche della superficie durante la produzione per monitorare l'omogeneità del materiale ed eliminare i difetti superficiali, garantendo che il target soddisfi gli standard tecnici più esigenti.

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FAQ

In che modo il design rotativo influisce sull'uniformità di deposizione nelle applicazioni di sputtering?

Il meccanismo rotante distribuisce l'erosione in modo uniforme sulla superficie del target. Questa rimozione uniforme del materiale riduce al minimo il riscaldamento localizzato, migliorando l'uniformità del film e prolungando la durata del target durante il processo di deposizione.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di dimensioni personalizzate per questo obiettivo?

Le dimensioni personalizzate consentono l'integrazione con diversi sistemi di sputtering. Adattando il target a specifiche geometrie della camera, gli utenti possono ottenere tassi di deposizione ottimali e uno spessore uniforme del film sui substrati, riducendo al minimo le regolazioni del processo.

Come viene gestito il controllo di qualità durante la produzione di questo target di nichel?

Il controllo qualità prevede rigorosi controlli di densità e ispezioni della superficie mediante microscopia ottica. Queste procedure verificano l'omogeneità del materiale e rilevano le imperfezioni superficiali, assicurando la conformità dell'obiettivo agli standard industriali definiti. Contattateci per ulteriori informazioni.

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