CY9474 Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (111), 10x10x1 mm, SSP

Substrato di nichel a cristallo singolo Ni (111), 10x10x1 mm, SSP Descrizione

Il substrato di nichel a cristallo singolo Ni Substrate (111), 10x10x1 mm, SSP è un wafer di nichel monocristallino con orientamento cristallografico (111). Le sue dimensioni di 10x10x1 mm garantiscono un'adeguata compatibilità con i sistemi standard di caratterizzazione dei materiali e di lavorazione dei semiconduttori. Il substrato presenta una struttura superficiale atomicamente piatta e difetti cristallini minimi, che sono fondamentali per gli studi che richiedono proprietà elettroniche e superficiali uniformi. L'analisi dettagliata della morfologia superficiale garantisce la conformità del materiale ai rigorosi protocolli di ricerca.

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (111), 10x10x1 mm, Applicazioni SSP

Elettronica e lavorazione dei semiconduttori
- Utilizzato come substrato nella deposizione di film sottili per ottenere una crescita uniforme del film sfruttando la superficie atomicamente piatta e ridotta al minimo dei difetti.
- Applicato come standard di calibrazione nella microscopia elettronica per garantire parametri di imaging coerenti grazie alla sua cristallografia ben definita.

Applicazioni industriali e di ricerca
- Utilizzato come materiale campione nei test di corrosione per valutare il comportamento del nichel in condizioni ambientali controllate, sfruttando la sua struttura cristallina uniforme.
- Serve come materiale di riferimento nella ricerca sulla scienza dei materiali per convalidare i processi di trattamento superficiale grazie alle sue proprietà morfologiche uniformi.

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (111), 10x10x1 mm, confezione SSP

Il substrato è confezionato in una busta a dissipazione statica e fissato in un contenitore imbottito e rivestito di schiuma per attenuare le vibrazioni e l'impatto fisico durante il trasporto. Viene conservato in un ambiente controllato e asciutto a temperatura ambiente per evitare la contaminazione superficiale e l'ossidazione. Su richiesta sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui etichette antistatiche e vassoi a scomparti, per aderire a protocolli di manipolazione specifici.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento (111) influisce sulle prestazioni del substrato nella caratterizzazione dei materiali?
A1: L'orientamento (111) migliora l'uniformità delle disposizioni atomiche, essenziale per analisi accurate di microscopia elettronica e diffrazione. Questa uniformità favorisce risultati sperimentali più riproducibili nelle applicazioni di ricerca.

D2: Quali misure vengono adottate durante la fabbricazione per ridurre al minimo i difetti cristallini?
A2: Il substrato viene prodotto con metodi di crescita controllata dei cristalli e viene sottoposto a una mappatura della superficie al SEM per identificare e ridurre al minimo i difetti. Questo processo assicura che il substrato soddisfi la rigorosa coerenza dei materiali richiesta per gli esperimenti di precisione.

D3: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per mantenere l'integrità della superficie del substrato?
A3: È consigliabile conservare il substrato in un ambiente asciutto e a temperatura stabile, all'interno di una confezione priva di elettricità statica. Questo riduce al minimo il rischio di contaminazione e ossidazione, garantendo che le proprietà della superficie rimangano intatte per l'uso successivo.

Informazioni aggiuntive

I substrati di cristallo singolo svolgono un ruolo cruciale nella ricerca avanzata sui materiali e nella lavorazione dei semiconduttori. Il controllo preciso dell'orientamento dei cristalli influisce sulle proprietà elettroniche e strutturali dei film sottili depositati. I ricercatori si affidano a questi substrati per ottenere configurazioni sperimentali coerenti e una convalida affidabile delle prestazioni dei materiali.

I substrati a base di nichel sono anche un importante riferimento negli studi sulla resistenza alla corrosione e sul comportamento metallurgico. La comprensione dell'interazione tra l'orientamento dei cristalli e le tecniche di trattamento superficiale può portare a previsioni più accurate del comportamento dei materiali nelle applicazioni industriali.