CY9471 Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (110), 10x10x1 mm, SSP

Substrato di nichel a cristallo singolo Ni (110), 10x10x1 mm, SSP Descrizione

Il substrato di nichel a cristallo singolo (110), 10x10x1 mm, SSP è un substrato di nichel a cristallo singolo di elevata purezza prodotto con orientamento cristallografico (110). L'area superficiale di 10x10 mm e lo spessore di 1 mm facilitano l'integrazione in setup sperimentali che richiedono una struttura a grani controllati e difetti superficiali minimi. Il substrato è sottoposto a rigorose analisi al SEM e di diffrazione che ne garantiscono l'accuratezza strutturale, a supporto della ricerca avanzata nella scienza dei materiali e negli ambienti di lavorazione dei semiconduttori.

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (110), 10x10x1 mm, Applicazioni SSP

Applicazioni di elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come substrato nella lavorazione dei wafer di semiconduttori per ottenere strati epitassiali definiti sfruttando l'orientamento controllato (110).
- Applicato negli studi di deposizione di film sottili per valutare l'uniformità dello strato e ridurre al minimo il disallineamento del reticolo.

Test sui materiali industriali
- Serve come standard di calibrazione per i sistemi di misurazione della rugosità superficiale per supportare un'analisi accurata dei film metallici.
- Viene spesso utilizzato nelle configurazioni di ricerca per convalidare le proprietà metallurgiche attraverso una struttura cristallografica coerente.

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (110), 10x10x1 mm, confezione SSP

Il substrato è confezionato singolarmente in contenitori antistatici e imbottiti per attenuare gli shock meccanici e la contaminazione. Viene conservato in un ambiente asciutto e a temperatura controllata per preservarne le caratteristiche superficiali. Per evitare l'esposizione al particolato vengono utilizzati materiali protettivi e opzioni di stoccaggio sigillate. Sono disponibili configurazioni personalizzate di etichettatura e imballaggio per soddisfare requisiti specifici di manipolazione e tracciabilità.

Domande frequenti

Q1: Quali metodi vengono utilizzati per verificare l'orientamento (110) sul substrato?
A1: La diffrazione di raggi X in superficie e la microscopia elettronica a scansione vengono utilizzate per confermare l'orientamento cristallografico (110) e valutare eventuali deviazioni della struttura reticolare. Queste tecniche forniscono dati quantitativi sull'uniformità strutturale del substrato per la ricerca applicata.

D2: Come deve essere maneggiato il substrato per evitare la contaminazione?
A2: Maneggiare il substrato in un ambiente pulito utilizzando guanti e strumenti antistatici. Ridurre al minimo l'esposizione al particolato aereo utilizzando contenitori dedicati e protocolli di camera bianca per mantenere l'integrità della superficie.

D3: È possibile regolare le dimensioni del substrato per applicazioni specifiche?
A3: Il modello attuale è standardizzato a 10x10x1 mm. Per dimensioni personalizzate, è necessario consultare gli specialisti tecnici SAM per valutare le modifiche al processo e la fattibilità in base alle esigenze di ricerca o di produzione.

Informazioni aggiuntive

I cristalli singoli di nichel offrono un orientamento cristallografico definito, fondamentale per gli studi sperimentali in metallurgia e nella lavorazione dei semiconduttori. La loro struttura a grani coerenti e le loro proprietà superficiali facilitano gli studi controllati sulla formazione di film epitassiali e sul comportamento metallico in varie condizioni di lavorazione.

La ricerca sui substrati a cristallo singolo contribuisce alla comprensione delle transizioni di fase e dei fenomeni superficiali nei metalli. Queste conoscenze fondamentali supportano il miglioramento delle tecniche di deposizione e guidano lo sviluppo di materiali avanzati per applicazioni industriali e accademiche.