CY9468 Substrato di nichel a cristallo singolo Ni Substrato (100), 10x10x1 mm, SSP

Substrato di nichel a cristallo singolo Ni Substrato (100), 10x10x1 mm, SSP Descrizione

Il substrato di nichel a cristallo singolo Ni Substrate (100), 10x10x1 mm, SSP è un substrato a base di nichel con orientamento definito (100). Le sue dimensioni supportano i requisiti standard del processo dei semiconduttori. La struttura a cristallo singolo riduce al minimo i confini dei grani, riducendo gli effetti di dispersione e garantendo un comportamento elettrico coerente. Questa struttura precisa è vantaggiosa per le applicazioni che richiedono cristallinità controllata e uniformità del materiale nei processi di fabbricazione avanzati.

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (100), 10x10x1 mm, Applicazioni SSP

Elettronica
- Utilizzato come substrato nella deposizione di film epitassiali per ottenere una crescita uniforme dello strato sfruttando l'orientamento della superficie (100), garantendo proprietà elettriche costanti.
- Applicato come standard di calibrazione per studi metallurgici per ottimizzare l'accuratezza delle analisi sfruttando la sua struttura a cristallo singolo di elevata purezza.

Ricerca e sviluppo
- Serve come piattaforma nella ricerca sulle proprietà dei materiali per valutare l'impatto cristallografico sulle prestazioni dei dispositivi, sfruttando la minima densità di difetti.

Applicazioni industriali
- Utilizzato spesso negli imballaggi microelettronici per migliorare la gestione termica, sfruttando le dimensioni coerenti del substrato e le proprietà del materiale.

Substrato di nichel a cristallo singolo Ni Substrato (100), 10x10x1 mm, confezione SSP

Il substrato è fissato individualmente in un imballaggio antistatico e imbottito in contenitori sigillati per evitare danni meccanici e contaminazione. L'imballaggio favorisce condizioni di temperatura stabili e riduce al minimo l'esposizione all'umidità durante il trasporto. Le opzioni di imballaggio protettivo e di etichettatura personalizzata consentono di soddisfare protocolli di manipolazione specifici. Per una maggiore protezione nelle applicazioni più delicate, è possibile optare per la sigillatura sottovuoto.

Domande frequenti

Q1: Qual è il significato dell'orientamento (100) in questo substrato?
A1: L'orientamento (100) favorisce l'uniformità delle proprietà dei cristalli e riduce al minimo la densità dei difetti, il che è essenziale per una crescita coerente del film e riduce le sollecitazioni interfacciali durante i processi di fabbricazione dei dispositivi.

D2: In che modo le dimensioni di 10x10x1 mm del substrato influiscono sulla lavorazione dei semiconduttori?
A2: Le dimensioni standardizzate garantiscono la compatibilità con le apparecchiature esistenti per la lavorazione dei semiconduttori, riducendo la variabilità durante la deposizione e la litografia. Questa uniformità facilita la riproducibilità dei risultati sperimentali e produttivi.

D3: Quali misure di controllo della qualità vengono applicate durante la produzione?
A3: SAM utilizza il SEM ad alta risoluzione e la diffrazione di raggi X per valutare l'allineamento cristallografico e l'integrità della superficie. Queste misure confermano che ogni substrato soddisfa i rigorosi standard dimensionali e di purezza richiesti per la fabbricazione avanzata.

Ulteriori informazioni

I substrati di nichel a cristallo singolo svolgono un ruolo importante sia nella ricerca accademica che nella produzione industriale grazie al loro accurato controllo cristallografico e alle proprietà costanti del materiale. Questi substrati forniscono una piattaforma affidabile per l'analisi e lo sviluppo di dispositivi a semiconduttore, dove difetti minimi e orientamento costante sono fondamentali.

Il controllo dettagliato della struttura cristallina consente di effettuare indagini precise sul comportamento dei materiali a livello micro e nanometrico. Di conseguenza, questi substrati non solo supportano la fabbricazione di dispositivi avanzati, ma contribuiscono anche a una più ampia comprensione dei principi della scienza dei materiali in settori che richiedono componenti elettronici ad alta definizione.