CY9465 Substrato di nichel a cristallo singolo Ni Substrato (100), 5x5x1 mm, SSP

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (100), 5x5x1 mm, SSP Descrizione

Il substrato è realizzato in nichel di elevata purezza in configurazione a cristallo singolo con orientamento (100). Le sue dimensioni di 5 mm per 5 mm con uno spessore di 1 mm garantiscono la compatibilità con le apparecchiature di deposizione e lavorazione standard. L'orientamento controllato dei cristalli riduce al minimo i confini dei grani, a vantaggio dell'uniformità del film epitassiale. Questo substrato rappresenta una piattaforma adatta per la ricerca e gli esperimenti industriali che richiedono una precisa coerenza cristallografica.

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (100), 5x5x1 mm, SSP Applicazioni

Applicazioni di elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come substrato nella deposizione di film epitassiali per ottenere una crescita uniforme dello strato sfruttando l'orientamento cristallografico controllato (100).
- Applicato come base nella fabbricazione di circuiti avanzati per ridurre i difetti minimizzando i confini dei grani.

Applicazioni di ricerca e processi industriali
- Utilizzato come campione di calibrazione negli studi cristallografici per migliorare l'accuratezza delle misure fornendo un modello di cristallo singolo coerente.
- Serve come componente in esperimenti di alta precisione per valutare le tecniche di deposizione grazie alla sua metallurgia stabile.

Substrato di nichel a cristallo singolo Substrato di Ni (100), 5x5x1 mm, confezione SSP

Il substrato è fissato in supporti a dissipazione statica con imbottitura in schiuma per attenuare gli shock meccanici e le vibrazioni. Ogni unità è sigillata in un imballaggio antistatico per evitare la contaminazione da particolato e umidità. Si consiglia di conservarla in un ambiente asciutto e a temperatura controllata. Su richiesta, è possibile fornire opzioni di etichettatura e compartimentazione personalizzate per ottimizzare la gestione e la logistica delle consegne.

Domande frequenti

Q1: Come viene verificato l'orientamento cristallografico del substrato (100)?
A1: L'orientamento viene confermato mediante analisi di diffrazione a raggi X e diffrazione a retrodiffusione di elettroni, assicurando che il substrato soddisfi i rigorosi criteri di allineamento per i processi epitassiali.

D2: Quali precauzioni di manipolazione sono consigliate durante la lavorazione?
A2: È consigliabile utilizzare strumenti antistatici e condizioni di camera bianca durante la manipolazione per evitare la contaminazione e le sollecitazioni meccaniche che potrebbero alterare la struttura cristallina.

D3: Quali sono le condizioni di conservazione ottimali per mantenere l'integrità del substrato?
A3: Il substrato deve essere conservato in un ambiente asciutto e a temperatura controllata, possibilmente in un imballaggio antistatico per evitare l'assorbimento di umidità e la contaminazione da particelle.

Informazioni aggiuntive

I cristalli singoli di nichel sono substrati essenziali nella ricerca sui materiali, in quanto offrono un punto di riferimento per lo studio della crescita epitassiale e dei fenomeni di interfaccia. Le loro proprietà cristallografiche uniformi li rendono preziosi per gli esperimenti che richiedono un alto grado di precisione strutturale.

La produzione di substrati di cristallo singolo richiede un controllo meticoloso delle condizioni metallurgiche. Questi materiali supportano le indagini sulla fisica delle superfici e contribuiscono ai progressi nella tecnologia dei processi dei semiconduttori, fornendo una piattaforma a minimizzazione di difetti per la deposizione di film sottili.