CY9463 Nichel policristallino Substrato Ni Substrato 10 x 10 x 0,5 mm, SSP

Nichel policristallino Substrato Ni Substrato 10 x 10 x 0,5 mm, SSP Descrizione

Il substrato di nichel policristallino Ni Substrate 10 x 10 x 0,5 mm, SSP è prodotto con nichel policristallino di elevata purezza. Le dimensioni del substrato (10 x 10 mm con uno spessore di 0,5 mm) facilitano la compatibilità con le apparecchiature di lavorazione standard. La sua microstruttura uniforme riduce al minimo le incongruenze tra i confini dei grani, a vantaggio della deposizione di film sottili e della microfabbricazione. Questo substrato controllato aiuta a ottenere risultati ripetibili nell'assemblaggio di dispositivi a semiconduttore e nella ricerca fotovoltaica.

Substrato policristallino di nichel Substrato di Ni 10 x 10 x 0,5 mm, SSP Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come substrato di deposizione nei dispositivi a semiconduttore per ottenere una formazione uniforme di film sottili sfruttando una microstruttura controllata.
- Applicato come strato di base per i circuiti integrati per supportare una modellazione precisa e l'incisione ad alta risoluzione grazie alla sua costante tolleranza dimensionale.

2.Fotovoltaico
- Serve come substrato di supporto nell'assemblaggio di celle solari per ottenere un'efficiente raccolta di carica sfruttando la sua struttura a grani uniformi.

3.Ricerca e test industriali
- Utilizzato come materiale standard nella ricerca sui materiali per valutare i processi di deposizione di film a base di nichel, sfruttando la sua finitura superficiale controllata.

Substrato policristallino di nichel Substrato di Ni 10 x 10 x 0,5 mm, confezione SSP

Ogni substrato è confezionato singolarmente in una busta antigraffio e antistatica e inserito in un contenitore imbottito per attenuare le sollecitazioni meccaniche durante la manipolazione. Le condizioni di conservazione richiedono un ambiente asciutto e a temperatura stabile per prevenire l'ossidazione e preservare l'integrità microstrutturale. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui l'etichettatura dei lotti e gli inserti anti-contaminazione, per soddisfare specifiche esigenze di laboratorio o di produzione.

Domande frequenti

Q1: In che modo la struttura policristallina influisce sulla deposizione del film sottile?
A1: La struttura policristallina uniforme riduce al minimo le variazioni durante la crescita del film sottile, favorendo un'adesione uniforme dello strato e una maggiore riproducibilità del dispositivo nelle applicazioni dei semiconduttori.

D2: Quali misure di controllo della qualità verificano le tolleranze dimensionali del substrato?
A2: Il substrato viene sottoposto a un'ispezione al microscopio elettronico e a una metrologia precisa per valutare l'uniformità dei grani e l'accuratezza dimensionale, garantendo l'idoneità per ambienti di lavorazione ad alta precisione.

D3: È possibile personalizzare lo spessore del substrato?
A3: Sì, mentre lo spessore standard è di 0,5 mm, gli ordini personalizzati possono regolare lo spessore del substrato in base alle esigenze sperimentali, con protocolli di garanzia della qualità equivalenti mantenuti in produzione.

Informazioni aggiuntive

I substrati di nichel policristallino sono fondamentali nella fabbricazione di dispositivi elettronici, dove la microstruttura controllata gioca un ruolo critico nelle prestazioni dei film depositati. Le proprietà del materiale del nichel, tra cui la resistenza alla corrosione e la stabilità del comportamento elettrico, contribuiscono al suo ampio utilizzo nella ricerca sui semiconduttori e nelle applicazioni industriali.

I progressi nella lavorazione metallurgica hanno permesso un controllo preciso della struttura dei grani di questi substrati. Questo, a sua volta, facilita una migliore riproducibilità dei risultati sperimentali e supporta lo sviluppo di tecniche innovative di deposizione di film sottili, che sono fondamentali sia nella ricerca accademica che negli ambienti di produzione industriale.