CY9462 Nichel policristallino Substrato Ni Substrato 1 in x 1 in x 1 mm, SSP

Nichel policristallino Substrato Ni Substrato 1 in x 1 in x 1 mm, SSP Descrizione

Il substrato policristallino di nichel Ni Substrate 1 in x 1 in x 1 mm, SSP è prodotto da nichel di elevata purezza utilizzando cicli termici regolati che promuovono una struttura policristallina controllata. Le dimensioni compatte facilitano la compatibilità con le configurazioni standard per semiconduttori e microfabbricazione, offrendo al contempo una base stabile per la deposizione del film e la successiva lavorazione. Il metodo di lavorazione del substrato riduce al minimo le variazioni microstrutturali, assicurando un'uniformità che supporta la stabilità dimensionale e le prestazioni funzionali nelle applicazioni di cristallo di precisione.

Substrato policristallino di nichel Substrato di Ni 1 in x 1 in x 1 mm, applicazioni SSP

Produzione di elettronica e semiconduttori
- Utilizzo come substrato nei processi di deposizione di film sottili per ottenere un rivestimento uniforme sfruttando la sua microstruttura coerente.
- Applicato come strato di base nella fabbricazione di sensori per supportare caratteristiche elettriche stabili grazie alla sua struttura a grani finemente controllati.

Lavorazione industriale
- Impiegato come componente nei dispositivi di lavorazione termica per garantire una distribuzione uniforme del calore, sfruttando le sue proprietà fisiche uniformi.
- Utilizzato nei dispositivi di calibrazione dove la stabilità dimensionale è essenziale per misure e confronti accurati.

Substrato policristallino di nichel Substrato di Ni 1 in x 1 in x 1 mm, imballaggio SSP

Il substrato è confezionato in un contenitore antistatico e imbottito per evitare danni meccanici e contaminazione. Ogni unità è avvolta in materiale per camere bianche e sigillata in un imballaggio resistente all'umidità. Conservare in un ambiente a temperatura controllata e a bassa umidità. Su richiesta, sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui layout a compartimenti stagni ed etichettature specifiche, per soddisfare precisi protocolli di manipolazione e conservazione.

Domande frequenti

Q1: In che modo la struttura policristallina controllata è vantaggiosa per la mia applicazione?
A1: La microstruttura uniforme riduce al minimo le variazioni dei confini dei grani, con conseguente stabilità delle proprietà meccaniche ed elettriche. Ciò va a vantaggio delle applicazioni che richiedono prestazioni costanti del substrato durante la deposizione e la lavorazione del film.

D2: Quali misure di controllo della qualità vengono eseguite su questi substrati?
A2: SAM impiega ispezioni sistematiche al SEM e test di ciclaggio termico durante la produzione. Queste misure monitorano l'uniformità della grana e la consistenza strutturale, assicurando che il substrato soddisfi le tolleranze specificate per gli ambienti di lavorazione avanzati.

D3: È possibile verificare la compatibilità delle dimensioni del substrato con le apparecchiature standard?
A3: Sì, le dimensioni di 1 pollice x 1 pollice x 1 mm sono prodotte con tolleranze rigorose. Ciò garantisce la compatibilità con le attrezzature standard per la lavorazione dei semiconduttori e dei cristalli, consentendo un'integrazione affidabile nei flussi di lavoro di produzione esistenti.

Informazioni aggiuntive

I substrati di nichel sono fondamentali nel campo della lavorazione dei cristalli e della microfabbricazione grazie alle loro stabili proprietà chimiche e fisiche. La natura policristallina di questi substrati offre una microstruttura equilibrata che favorisce la crescita uniforme del film e riduce al minimo le anomalie di lavorazione.

Nella scienza dei materiali, la lavorazione termica controllata è fondamentale per ottenere gli orientamenti dei cristalli e le strutture dei grani desiderati. La comprensione di questi processi aiuta gli ingegneri a ottimizzare le prestazioni dei substrati per le applicazioni che richiedono caratteristiche dimensionali ed elettriche precise.