Descrizione del materiale di evaporazione a base di siliciuro di afnio
L'Hafnium Silicide Evaporation Material, fornito da Stanford Advanced Materials, rappresenta uno straordinario materiale ceramico siliconico per evaporazione con formula chimica HfSi2. L'importanza dei materiali di evaporazione HfSi2 di elevata purezza nei processi di deposizione non può essere sottovalutata, in quanto garantiscono la deposizione di film di altissima qualità. Stanford Advanced Materials (SAM) è specializzata nella produzione di materiali di evaporazione che vantano livelli di purezza fino al 99,9995%, supportati da rigorosi processi di assicurazione della qualità che garantiscono la massima affidabilità del prodotto.
Specifiche dei materiali per l'evaporazione del siliciuro di afnio
Descrizione |
Descrizione del materiale |
Tipo di materiale |
Silicato di afnio (IV) |
Simbolo |
HfSi2 |
Aspetto/Colore |
Cristallo tetragonale |
Punto di fusione |
2.758 °C (4.996 °F; 3.031 K) |
Densità |
7,0 g/cm³ |
Purezza |
99.5% |
Forme disponibili |
Polvere, granulo, su misura |
Applicazione dei materiali di evaporazione del siliciuro di afnio
Imateriali di evaporazione del siliciuro di afnio trovano ampia applicazione nei processi di deposizione, che comprendono la deposizione di semiconduttori, la deposizione di vapore chimico (CVD) e la deposizione di vapore fisico (PVD). La loro utilità principale risiede nel regno dell'ottica, che comprende la protezione dall'usura, i rivestimenti decorativi e i progressi nelle tecnologie di visualizzazione.
Imballaggio dei materiali per evaporazione dell'afnio silicizzato
Alla Stanford Advanced Materials (SAM), diamo priorità all'identificazione efficiente e al controllo di qualità dei nostri materiali di evaporazione del siliciuro di afnio. Questi materiali sono meticolosamente etichettati ed etichettati esternamente, a testimonianza del nostro impegno a evitare qualsiasi potenziale danno durante lo stoccaggio o il trasporto.