Offriamo materiali per l'evaporazione di ossido di afnio (HfO2) in varie forme. Su richiesta sono disponibili anche forme personalizzate. Stanford Advanced Materials (SAM) è un produttore e fornitore leader di materiali per l'evaporazione di ossido di afnio di elevata purezza e di un'ampia gamma di materiali per l'evaporazione.
Descrizione dei materiali per l'evaporazione dell'ossido di afnio (HfO2)
Imateriali per evaporazione di ossido di afnio (HfO2) sono utilizzati nei processi di deposizione di film sottili per realizzare rivestimenti con proprietà elettriche, ottiche o dielettriche personalizzabili. Noti per l'elevata costante dielettrica, la stabilità termica e l'ampio bandgap, i film di HfO2 sono fondamentali nella produzione di semiconduttori, in particolare per le applicazioni del dielettrico di gate nei transistor CMOS avanzati. Inoltre, i film di ossido di afnio trovano impiego nei rivestimenti ottici, nei dielettrici ad alto coefficiente k e nelle applicazioni dei condensatori, contribuendo al progresso dell'elettronica, dell'ottica e delle nanotecnologie.
Specifiche dei materiali di evaporazione dell'ossido di afnio (HfO2)
Tipo di materiale
Ossido di afnio
Simbolo
HfO2
Peso molecolare
210.49
Colore/Aspetto
Bianco sporco
Punto di fusione (°C)
2,810
Coefficiente di espansione termica
5,6 x 10-6/K
Densità teorica (g/cc)
9.68
Materiali di evaporazione dell'ossido di afnio (HfO2) Applicazioni
- Utilizzato nei processi di deposizione di film sottili di ossido di afnio , tra cui deposizione di semiconduttori, deposizione di vapore chimico (CVD) e deposizione di vapore fisico (PVD).
- Utilizzato per l'ottica, compresa la protezione dall'usura, i rivestimenti decorativi e i display.
Imballaggio dei materiali di evaporazione dell'ossido di afnio (HfO2)
I nostri materiali per l'evaporazione dell'ossido di afnio (HfO2 ) sono trattati con cura per evitare danni durante lo stoccaggio e il trasporto e per preservare la qualità dei nostri prodotti nelle loro condizioni originali.
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