CY3435 Nitruro di alluminio (AlN) Substrato a cristallo singolo

Catalogo no.	CY3435
Composizione	AlN
Dimensioni	10x10 mm
Spessore	450 ± 50μm
Finitura superficiale	Faccia Al: Lucidatura CMP (RMS < 0,8 nm); faccia N: lucidatura ottica (RMS < 3 nm)
Orientamento	<0001>± 1°

Ilsubstrato a cristallo singolo AlN è un materiale semiconduttore ad ampio bandgap con caratteristiche eccezionali. Stanford Advanced Materials (SAM) ha una ricca esperienza nella produzione e nella fornitura di prodotti ottici di alta qualità.

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Composizione (cubica)	AlN
Area utilizzabile	＞80%
Esclusione dei bordi	1,0 mm
Dimensioni	10x10 mm
Spessore	450 ± 50μm
Coefficiente di assorbimento	< 80 cm-1
Densità della fossa di mordenzatura (EPD)	< 1E5 cm-2
Finitura superficiale	Faccia di Al: Lucidatura CMP (RMS < 0,8 nm) Faccia N: lucidatura ottica (RMS < 3 nm)
Orientamento	<0001>± 1°

Composizione (cubica)	AlN
Area utilizzabile	＞80%
Esclusione dei bordi	1,0 mm
Dimensioni	10x10 mm
Spessore	450 ± 50μm
Coefficiente di assorbimento	< 80 cm-1
Densità della fossa di mordenzatura (EPD)	< 1E5 cm-2
Finitura superficiale	Faccia di Al: Lucidatura CMP (RMS < 0,8 nm) Faccia N: lucidatura ottica (RMS < 3 nm)
Orientamento	<0001>± 1°

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