Descrizione dei materiali per l'evaporazione del fluoruro di titanio
Il fluoruro di titanio (III) (TiF3), un materiale per l'evaporazione di ceramica fluorurata, rappresenta una risorsa significativa nel repertorio di Stanford Advanced Materials. Con la formula chimica TiF3, questo composto ha un ruolo essenziale nei processi di deposizione che garantiscono la deposizione di film di alta qualità. La specializzazione di SAM consiste nella produzione di materiali per l'evaporazione che vantano una purezza fino al 99,9995%, un risultato ottenuto grazie a rigorosi processi di assicurazione della qualità che garantiscono un'affidabilità del prodotto senza pari.
Specifiche dei materiali per l'evaporazione del fluoruro di titanio
Descrizione |
Descrizione del materiale |
Tipo di materiale |
Fluoruro di titanio (III) |
Simbolo |
TiF3 |
Aspetto/Colore |
Solido da viola a rosso porpora |
Punto di fusione |
1.200 °C (2.190 °F; 1.470 K) |
Densità |
3,4 g/cm3 |
Purezza |
99.9% |
Forma |
Polvere/granulo/su misura |
Applicazioni dei materiali di evaporazione del fluoruro di titanio
Imateriali di evaporazione del fluoruro di titanio (III) trovano uno spettro di applicazioni in vari processi di deposizione, tra cui la deposizione di semiconduttori, la deposizione di vapore chimico (CVD) e la deposizione di vapore fisico (PVD). I loro ruoli principali comprendono:
- Protezione dall'usura
- Rivestimenti decorativi
- Display
- Applicazioni ottiche
Imballaggio dei materiali di evaporazione del fluoruro di titanio
Per garantire un'identificazione meticolosa e un controllo di qualità, i materiali per l'evaporazione del fluoruro di titanio (III) sono etichettati meticolosamente ed etichettati esternamente. Il nostro processo di imballaggio dà priorità alla prevenzione di potenziali danni durante lo stoccaggio o il trasporto, sottolineando la nostra dedizione a preservare l'integrità del prodotto.