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Stanford Advanced Materials
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  • ST0228 Target di sputtering in carburo di tantalio, TaC

    • ST0228 Target di sputtering in carburo di tantalio, TaC

    Catalogo no. ST0228
    Formula chimica TaC
    Numero CAS 12070-06-3
    La purezza 99.5%
    Forma Dischi, piastre, bersagli a colonna, bersagli a gradini, personalizzati

    Il target di sputtering in carburo di tantalio è disponibile in varie forme, purezza, dimensioni e prezzi. Stanford Advanced Materials (SAM) offretarget di sputtering in carburo di tantalio di alta qualità ai prezzi più competitivi.

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