{{flagHref}}
Prodotti
  • Prodotti
  • Categorie
  • Blog
  • Podcast
  • Applicazione
  • Documento
|
Stanford Advanced Materials
/ {{languageFlag}}
Seleziona lingua
Stanford Advanced Materials {{item.label}}

ST6582 Obiettivo di tungsteno vanadio tantalio (obiettivo VTaW)

Catalogo no. ST6582
Composizione chimica V, Ta, W
La purezza 99.95%
Forma Disco planare

Iltarget di vanadio-tantalio-tungsteno (VTaW Target) di Stanford Advanced Materials (SAM) è un robusto materiale per sputtering multielemento che offre un'eccezionale stabilità termica, resistenza alla corrosione e forza meccanica per gli ambienti di deposizione di film sottili più esigenti.

Prodotti correlati: Target di sputtering al vanadio, V, Target di sputtering al titanio-alluminio vanadio, Ti/Al/V, Target di sputtering al tantalio, Ta, Target di sputtering al tantalio-alluminio, Ta/Al, Target di sputtering al tungsteno, W, Target di sputtering al nichel-tungsteno, Ni/W

Richiesta
Aggiungi alla lista delle richieste
Descrizione
Specificazione

Richiedi un preventivo

Inviaci oggi stesso una richiesta per saperne di più e ricevere i prezzi più aggiornati. Grazie!

* Il suo nome
* La sua email
* Nome del prodotto
* Il vostro telefono
* Paese

Italia

    Purity

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Other
    Thickness

    0.25''

    • 0.25''
    • 0.125''
    • All
    • Other
    Bonding

    Yes

    • Yes
    • No
    • Other
    Commenti
    Allegare i disegni:

    Lasciare i file qui o

    Formati di file accettati PDF, png, jpg, jpeg; se si caricano più file contemporaneamente, ogni file deve essere inferiore a 2 MB.
    * Codice di controllo
    Lascia un messaggio
    Lascia un messaggio
    * Il suo nome:
    * La sua email:
    * Nome del prodotto:
    * Il vostro telefono:
    * Commenti: