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Stanford Advanced Materials
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  • VD0867 Materiali per l'evaporazione di tellururo di nichel (NiTe)

    • VD0867 Materiali per l'evaporazione di tellururo di nichel (NiTe)

    Catalogo no. VD0867
    Materiale Tellururo di nichel (NiTe)
    La purezza 99.9%
    Forma Polvere/ Granulo/ Su misura

    Imateriali per l'evaporazione del tellururo di nichel (NiTe) forniti da Stanford Advanced Materials sono utilizzati nei processi di deposizione di film sottili per creare film sottili di tellururo di nichel per applicazioni in elettronica, optoelettronica e dispositivi semiconduttori.

    Prodotti correlati: Materiali per evaporazione di nichel (Ni), Materiali per evaporazione di alluminio-nichel (Al/Ni)

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    sc/1751616488-TA0001.jpg
    TA0001 Lingotto di tantalio (lingotto Ta)
    Aluminum (Al) Sputtering Target
    ST0001 Target di sputtering in alluminio (Al)
    sc/1744365419-TA0002.jpg
    TA0002 Foglio di tantalio, striscia di tantalio
    Tantalum Sheet, Tantalum Plate
    TA0003 Lastra di tantalio, piastra di tantalio
    Barium (Ba) Sputtering Target
    ST0003 Bersaglio di sputtering al bario (Ba)
    TA0004 Tantalum Tube/Tantalum Pipe (Ta Tube/Ta Pipe)
    TA0004 Tubo di tantalio (Ta)
    Tantalum Bar, Tantalum Rod
    TA0005 Barra di tantalio, barra di tantalio
    Boron (B) Sputtering Target
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    TA0006 Filo di tantalio (filo Ta)

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