ST1011 Bersaglio di sputtering al siliciuro di cromo, Cr3Si

Descrizione del target di cromo silicizzato per sputtering

Il target di cromo silicizzato per sputtering, Cr3Si, è progettato per garantire precisione e prestazioni elevate nei processi di deposizione avanzati. Prodotto con rigorosi controlli di qualità, questo target offre un'integrità costante del materiale per le applicazioni che richiedono una deposizione di film sottili di qualità superiore. Le sue forme personalizzabili, come i dischi o i formati su misura, assicurano la versatilità in una vasta gamma di ambienti industriali. L'esclusiva formulazione del prodotto, potenziata da un legame con l'indio, favorisce prestazioni affidabili nelle applicazioni di microelettronica e trattamento delle superfici ad alta richiesta.

Applicazioni dei target sputtering al cromo-siliciuro

- Deposizione di film sottili: Ideale per applicazioni nella fabbricazione di dispositivi semiconduttori e nella microelettronica.
- Fotovoltaico: utilizzato nella produzione di celle solari ad alta efficienza che richiedono una precisa consistenza del materiale.
- Microelettronica: Supporta la deposizione di strati conduttivi nella produzione di circuiti avanzati.
- Rivestimenti di superficie: Fornisce prestazioni di rivestimento uniformi in applicazioni protettive e decorative.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al cromo silicizzato

Il nostro target sputtering al cromo silicizzato è confezionato con cura per mantenere l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto.
Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche del settore.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali di un target sputtering al cromo-siliciuro?
R: Viene utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nel fotovoltaico e nelle applicazioni di rivestimento superficiale.

D: Come posso personalizzare la forma del target di sputtering?
R: I target possono essere prodotti come dischi standard o forme personalizzate in base a specifiche esigenze industriali.

D: Cosa comporta una purezza ≥99% per le prestazioni del prodotto?
R: Una purezza ≥99% garantisce un'elevata affidabilità e costanza di prestazioni, fondamentali per le applicazioni industriali di precisione.

D: Qual è il significato del legame con l'indio in questo obiettivo?
R: Il legame con l'indio contribuisce a migliorare l'adesione e le prestazioni complessive del target durante il processo di sputtering.

D: Ci sono requisiti speciali per la conservazione del target di cromo-siliciuro?
R: Si raccomanda di conservare il target in un ambiente asciutto e stabile, utilizzando l'imballaggio personalizzato fornito, per mantenerne la qualità e le prestazioni.