ST1005 Target per sputtering di biossido di titanio drogato con niobio, TiO2-Nb

Descrizione del target di sputtering in biossido di titanio drogato con niobio

Il target di sputtering al biossido di titanio drogato con niobio, TiO2-Nb, è progettato per una deposizione superiore di film in varie applicazioni high-tech. Grazie a tecniche di produzione avanzate, questo target garantisce uniformità, stabilità e prestazioni eccellenti in condizioni difficili. L'elevata purezza (≥99%) e le forme personalizzabili lo rendono una scelta ideale per i processi critici nella produzione di semiconduttori, celle solari e dispositivi optoelettronici.

Applicazioni dei target di sputtering al biossido di titanio drogato con niobio

- Produzione di semiconduttori: Fornisce un'eccellente deposizione di film sottile per circuiti integrati e dispositivi microelettronici.
- Fotovoltaico: migliora l'efficienza produttiva e le prestazioni delle celle solari.
- Optoelettronica: Ideale per la fabbricazione di rivestimenti ottici e tecnologie di visualizzazione.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per le configurazioni sperimentali che richiedono elevata purezza e stabilità.

Imballaggio dei target di sputtering al biossido di titanio drogato con niobio

I nostri target sputtering sono confezionati con cura per preservarne la qualità e l'integrità durante il trasporto. Ogni target è protetto da un imballaggio antistatico per evitare qualsiasi danno, assicurando che il materiale arrivi in condizioni ottimali per l'applicazione.

Domande frequenti

D: Quali sono i vantaggi del drogaggio del niobio nel target di sputtering TiO2?
R: Il drogaggio di niobio migliora le proprietà elettriche e fisiche del TiO2, con conseguente miglioramento dell'uniformità e della stabilità del film durante il processo di deposizione.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) di questo target influisce sulle sue prestazioni?
R: L'elevata purezza garantisce una contaminazione minima durante la deposizione del film, che è fondamentale per ottenere caratteristiche precise e affidabili del film sottile in applicazioni complesse.

D: Quali tipi di applicazioni possono utilizzare questo target di sputtering?
R: Questo target è ideale per la produzione di semiconduttori, celle fotovoltaiche, dispositivi optoelettronici e applicazioni di ricerca che richiedono film sottili di alta qualità.

D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, i target sono disponibili in dischi o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti specifici di progettazione e prestazioni.

D: Quali sono le considerazioni da fare durante lo stoccaggio e la manipolazione dei target di sputtering?
R: Si raccomanda di conservare i target in un ambiente controllato utilizzando un imballaggio antistatico e protettivo per evitare danni meccanici o elettrostatici prima di utilizzarli nel processo di deposizione.