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ST1000 Bersaglio di sputtering al solfuro di nichel, NiS

Catalogo no. ST1000
Composizione NiS
Numero CAS 16812-54-7
La purezza ≥99%
Forma Dischi o dischi personalizzati

Il target di sputtering al solfuro di nichel, NiS, è un target di sputtering di alta qualità progettato per la deposizione di film sottili avanzati, che garantisce prestazioni precise e affidabili. Stanford Advanced Materials è rinomata per i suoi approcci innovativi e l'impegno verso l'eccellenza nella scienza dei materiali, fornendo costantemente prodotti che soddisfano le rigorose esigenze dell'industria moderna.

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    0.25''

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