ST0996 Target di sputtering tungsteno-niobio, W/Nb

Descrizione del target di sputtering in tungsteno e niobio

Il target di sputtering in tungsteno niobio, W/Nb, è stato progettato per i processi di sputtering avanzati utilizzati in vari settori high-tech. Progettato con un livello di purezza elevato (≥99%) e disponibile sia in forma di disco standard che in configurazioni personalizzate, questo prodotto garantisce prestazioni affidabili nelle applicazioni di deposizione di film sottili. La sua robustezza e precisione lo rendono una scelta ottimale per la fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti avanzati e altri processi di deposizione critici. Sfruttando tecniche di produzione all'avanguardia, questo target offre un'eccellente uniformità e adesione, soddisfacendo i severi requisiti della moderna microelettronica e della ricerca industriale.

Applicazioni dei target sputtering di tungsteno e niobio

- Film sottili di semiconduttori: Ideale per depositare strati barriera, elettrodi e altri componenti critici nella microelettronica.
- Tecnologie di visualizzazione: Utilizzato nella produzione di schermi di precisione e rivestimenti avanzati per display.
- Rivestimenti avanzati: Adatti per la produzione di rivestimenti ad alte prestazioni in dispositivi ottici ed elettronici.
- Ricerca e sviluppo: Perfetto per le configurazioni sperimentali e la prototipazione in applicazioni di scienza dei materiali.

Imballaggio dei target sputtering in tungsteno e niobio

I nostri target di sputtering al tungsteno-niobio sono imballati in modo sicuro per garantire l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto. Ogni target è accuratamente sigillato sottovuoto e può essere personalizzato nelle opzioni di imballaggio in base ai requisiti specifici dell'ordine.

Domande frequenti

D: Quali vantaggi offre un target di sputtering in tungsteno e niobio rispetto ad altri materiali?
R: Il target di sputtering in tungsteno e niobio combina l'elevato punto di fusione e la durezza del tungsteno con la maggiore duttilità del niobio, fornendo prestazioni eccellenti e durata nei processi avanzati di deposizione di film sottili.

D: Che impatto ha il livello di purezza sul processo di sputtering?
R: Un livello di purezza elevato (≥99%) riduce al minimo la contaminazione durante lo sputtering, garantendo una deposizione uniforme del film e proprietà elettriche e meccaniche costanti nel prodotto finale.

D: Il target può essere personalizzato per specifiche configurazioni di sputtering?
R: Sì, i nostri target sono disponibili in forma di disco standard e in forme personalizzate per soddisfare i diversi requisiti dei vari sistemi e applicazioni di sputtering.

D: Quali settori industriali utilizzano tipicamente i target di sputtering in tungsteno e niobio?
R: Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nelle tecnologie di visualizzazione, nei rivestimenti ottici e in varie applicazioni di ricerca e sviluppo nella scienza dei materiali avanzati.

D: Come deve essere conservato il target per mantenere le sue prestazioni?
R: Si raccomanda di conservare il target in un ambiente pulito e asciutto e nella sua confezione originale sigillata sottovuoto fino al momento dell'uso, per evitare contaminazioni e preservarne l'elevata purezza.