(Fuori produzione) ST0994 Bersaglio di sputtering al titanio e silicio, Ti-Si

Descrizione del target di sputtering al titanio e silicio

Il target di sputtering al titanio e silicio, Ti-Si, è stato sviluppato per soddisfare i requisiti più esigenti delle applicazioni di sputtering di precisione. Prodotto con un'elevata purezza del ≥99% e disponibile sia in formato disco standard che in forme personalizzate, questo target garantisce prestazioni e uniformità eccezionali durante il processo di sputtering. La sua composizione ottimizzata offre tassi di deposizione stabili ed eccellente consistenza per applicazioni elettroniche, ottiche e di ingegneria delle superfici di alto livello.

Applicazioni del target di sputtering al titanio e silicio

- Fabbricazione di semiconduttori: Ideale per la deposizione di film sottili nella microelettronica e nei circuiti integrati.
- Celle fotovoltaiche: Utilizzato nella deposizione di strati nella produzione di pannelli solari.
- Dispositivi MEMS: Impiegati nella produzione di sistemi microelettromeccanici che richiedono prestazioni precise dei materiali.
- Rivestimenti ottici: Adatti per applicazioni in cui lo spessore controllato del film e le proprietà ottiche sono fondamentali.

Imballaggio del target di sputtering al titanio e silicio

I nostri target di sputtering al silicio titanio sono imballati meticolosamente per mantenere le loro condizioni incontaminate durante il trasporto. I target sono imballati in modo sicuro per evitare contaminazioni e danni e sono disponibili soluzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti logistici specifici.

Domande frequenti

D: Qual è la composizione del target di sputtering al titanio e silicio, Ti-Si?
R: È composto da una lega di titanio-silicio con una purezza ≥99%.

D: Per quali applicazioni viene utilizzato questo target sputtering?
R: È utilizzato nella produzione di semiconduttori, nella deposizione di film sottili, nella produzione fotovoltaica e nella produzione di dispositivi MEMS.

D: Sono disponibili dimensioni personalizzate per il target di sputtering?
R: Sì, il prodotto è disponibile in formati disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici.

D: Qual è il ruolo dell'indio in questo prodotto?
R: Il legame con l'indio assicura una connessione affidabile tra il materiale del target e il suo substrato di supporto, fornendo stabilità durante il processo di sputtering.

D: Come deve essere conservato e maneggiato il target di sputtering al titanio e silicio?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto e maneggiato con cura per mantenere l'integrità della superficie e prevenire la contaminazione.