ST0992 Bersaglio di sputtering in vanadato di stronzio, SrVO₃

Descrizione del target di sputtering al vanadato di stronzio

Il target di sputtering al vanadato di stronzio, SrVO₃, è stato progettato per ottenere prestazioni superiori nei processi di deposizione per sputtering. Con un livello di purezza ≥99%, questo target assicura una deposizione costante e di alta qualità, necessaria per la produzione di film sottili. Progettato per soddisfare esigenze applicative specifiche, è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato per soddisfare requisiti di produzione unici.

La sua composizione avanzata e la precisione di fabbricazione lo rendono una scelta ideale per i settori che richiedono rivestimenti di film sottili affidabili, tra cui la produzione di semiconduttori, la fabbricazione di dispositivi ottici e la tecnologia dei sensori. L'uso di un legame di indio migliora ulteriormente la stabilità del materiale durante i processi di sputtering, garantendo efficienza e prestazioni ottimali.

Applicazioni dei target sputtering di vanadato di stronzio

- Deposizione di film sottili: Perfetto per la produzione di semiconduttori e dispositivi elettronici.
- Rivestimenti ottici: Utilizzati nella produzione di lenti e filtri di alta qualità.
- Fabbricazione di sensori: Assicura una deposizione precisa e uniforme del film per gli elementi sensibili dei sensori.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per le configurazioni sperimentali negli studi sui materiali avanzati.

Imballaggio del target di sputtering al vanadato di stronzio

I nostri target di sputtering al vanadato di stronzio sono confezionati con cura per mantenere la loro alta qualità durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono sigillati sotto vuoto in imballaggi protettivi adatti a preservare l'integrità del target fino all'installazione.

Domande frequenti

D: Quali settori industriali utilizzano il target di sputtering al vanadato di stronzio?
R: È ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nella produzione di rivestimenti ottici, nella produzione di sensori e nella ricerca sui materiali avanzati.

D: Cosa implica un livello di purezza ≥99% per questo prodotto?
R: Un livello di purezza ≥99% garantisce un'elevata coerenza e affidabilità nei processi di deposizione, con conseguente qualità superiore dei film sottili.

D: Le forme dei target di sputtering possono essere personalizzate?
R: Sì, oltre ai dischi standard, i target possono essere personalizzati per soddisfare requisiti specifici.

D: Qual è il significato dell'uso dell'indio come materiale di legame?
R: I legami con l'indio forniscono un'eccellente adesione e conducibilità termica, migliorando la stabilità del target durante lo sputtering.

D: Come deve essere conservato il prodotto prima dell'uso?
R: Il prodotto deve essere conservato in un ambiente pulito, asciutto e a temperatura controllata per mantenerne la qualità e le prestazioni.