ST0991 Bersaglio di sputtering in ossido di ferro e stronzio, SrFe12O19

Descrizione del target di sputtering all'ossido di ferro e stronzio

Il target di sputtering all'ossido di ferro e stronzio, SrFe12O19, è stato progettato per soddisfare gli elevati standard richiesti dalle moderne applicazioni di sputtering. Realizzato con una purezza eccezionale (≥99%), questo target garantisce prestazioni costanti e un funzionamento affidabile in processi come la deposizione di film sottili. L'elevato punto di fusione di 450 °C e la densità di 8,02 g/cm³ contribuiscono alla sua idoneità in ambienti che richiedono una precisa gestione termica e integrità strutturale. Progettato per la versatilità, il target è disponibile come disco standard o può essere personalizzato in base alle specifiche del cliente, garantendo una compatibilità ottimale con i vari sistemi di sputtering.

Applicazioni dei target di sputtering all'ossido di ferro e stronzio

- Deposizione di film sottili: Ideale per la creazione di film sottili uniformi metallici, magnetici o isolanti nei processi di semiconduttori e microelettronici.
- Microelettronica: Utilizzato nella fabbricazione di circuiti integrati dove precisione e affidabilità sono fondamentali.
- Dispositivi optoelettronici: Supporta lo sviluppo di display, sensori e celle fotovoltaiche fornendo proprietà coerenti dei materiali.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per applicazioni sperimentali di sputtering in cui le prestazioni e la riproducibilità del materiale sono essenziali.

Imballaggio dei target di sputtering all'ossido di ferro e stronzio

I target sputtering sono imballati in modo sicuro per preservarne la qualità e l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. L'imballaggio standard comprende contenitori protettivi progettati per ridurre al minimo la contaminazione e i danni meccanici. Sono disponibili anche soluzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Domande frequenti

D: Qual è la composizione esatta del target di sputtering?
R: La composizione è SrFe₁₂O₁₉.

D: Quali forme sono disponibili per questo prodotto?
R: Il prodotto è disponibile in dischi o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici.

D: Qual è il livello di purezza del target di sputtering?
R: La purezza è mantenuta al ≥99%.

D: Cosa implica il punto di fusione di 450 °C per le sue applicazioni?
R: Il punto di fusione indica un'eccellente stabilità termica, che lo rende ideale per i processi di sputtering ad alta temperatura.

D: Come viene confezionato il target di sputtering?
R: I target sono confezionati in contenitori protettivi e sicuri, con opzioni di confezionamento personalizzate in base alle esigenze del cliente.