ST0981 Target di sputtering al tantalato di potassio, KTaO3

Descrizione del target di sputtering al tantalato di potassio

Il target di sputtering di tantalato di potassio, KTaO₃, è realizzato con una purezza del ≥99% e disponibile in forme a disco o personalizzate per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche. Progettato per applicazioni avanzate di sputtering, questo target fornisce prestazioni costanti nella deposizione di film sottili di alta qualità su vari substrati. È ideale per l'uso in dispositivi semiconduttori, optoelettronica e applicazioni dielettriche, garantendo affidabilità anche in condizioni di lavorazione difficili.

Applicazioni dei target di sputtering al tantalato di potassio

- Deposizione di film sottili: Ideale per la creazione di film sottili dielettrici e ferroelettrici nella produzione di semiconduttori.
- Dispositivi a semiconduttore: Utilizzato nella fabbricazione di componenti elettronici in cui è richiesta un'elevata affidabilità.
- Componenti optoelettronici: Adatto per applicazioni in sensori e dispositivi ottici grazie alle sue eccellenti proprietà materiali.
- Ricerca e sviluppo: Una scelta affidabile per le configurazioni sperimentali nella scienza dei materiali e negli studi sui materiali avanzati.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al tantalato di potassio

I nostri target di sputtering al tantalato di potassio sono confezionati secondo rigorose linee guida di controllo della qualità per garantire che rimangano incontaminati e intatti durante il trasporto e lo stoccaggio. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, garantendo una consegna sicura sia per la ricerca che per le applicazioni industriali.

Domande frequenti

D: Cosa rende il tantalato di potassio (KTaO₃) adatto alle applicazioni di sputtering?
R: La sua elevata purezza (≥99%) e le sue proprietà chimiche stabili garantiscono prestazioni di sputtering costanti, che portano alla deposizione uniforme di film sottili.

D: Le forme dei target di sputtering possono essere personalizzate?
R: Sì, i target sono disponibili come dischi standard o possono essere personalizzati in base alle specifiche richieste dei clienti.

D: Quali settori industriali utilizzano tipicamente i target di sputtering al tantalato di potassio?
R: Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nell'optoelettronica e nei laboratori di ricerca che si concentrano sulle applicazioni dei materiali avanzati.

D: In che modo il livello di purezza influisce sulle prestazioni del target di sputtering?
R: Una purezza più elevata (≥99%) riduce al minimo la contaminazione, migliorando così la qualità, la consistenza e le prestazioni complessive dei film depositati.

D: Ci sono raccomandazioni specifiche per lo stoccaggio o la manipolazione di questi target di sputtering?
R: Si raccomanda di conservare i target in un ambiente pulito e asciutto a temperatura controllata e di maneggiarli con cura per evitare contaminazioni e danni.