(Fuori produzione) ST0946 Target di sputtering all'arseniuro di gallio, GaAs

Descrizione del target di sputtering all'arseniuro di gallio

Il target di sputtering all'arseniuro di gallio, GaAs, è progettato per garantire prestazioni eccezionali nelle applicazioni di deposizione ad alta tecnologia. Prodotto in base a rigorosi controlli di qualità, presenta una purezza del ≥99% ed è disponibile in forme personalizzate come i dischi. Questo target è progettato per fornire una distribuzione uniforme del materiale durante i processi di sputtering, garantendo prestazioni costanti nella fabbricazione di dispositivi a semiconduttore e nelle applicazioni optoelettroniche. La sua composizione unica lo rende ideale per ottenere alta precisione e affidabilità, anche in condizioni difficili.

Applicazioni del target di sputtering all'arseniuro di gallio

- Produzione di semiconduttori: Ideale per la formazione di film sottili utilizzati nei circuiti integrati e nei dispositivi ad alta frequenza.
- Dispositivi optoelettronici: Utilizzato nella produzione di LED, diodi laser e fotorivelatori.
- Rivestimenti superficiali: Impiegati nei processi di sputtering per depositare strati uniformi su vari substrati.
- Ricerca e sviluppo: Ampiamente utilizzato nelle configurazioni sperimentali per lo sviluppo di sistemi elettronici e fotonici avanzati.

Imballaggio del target di sputtering all'arseniuro di gallio

Il nostro target di sputtering all'arseniuro di gallio è meticolosamente confezionato in contenitori protettivi sigillati sotto vuoto per salvaguardarne la purezza e l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono inoltre disponibili opzioni di confezionamento personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Domande frequenti

D: Quali sono le principali applicazioni del target di sputtering all'arseniuro di gallio?
R: È utilizzato principalmente nella produzione di semiconduttori, nella fabbricazione di dispositivi optoelettronici, nella deposizione di rivestimenti superficiali e nelle applicazioni di R&S nell'elettronica avanzata.

D: Come viene mantenuto il livello di purezza ≥99% nel processo di produzione?
R: Il processo di produzione prevede rigorose misure di controllo della qualità e metodi di purificazione all'avanguardia per garantire che il target GaAs mantenga il suo elevato livello di purezza.

D: La forma e le dimensioni possono essere personalizzate per specifiche apparecchiature di sputtering?
R: Sì, il prodotto è disponibile in dischi o in forme e dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti di vari sistemi di sputtering.

D: Quali sono le precauzioni da prendere quando si maneggia questo target di sputtering?
R: Si raccomanda di maneggiare il target in un ambiente pulito e controllato, utilizzando un'adeguata attrezzatura protettiva per evitare la contaminazione e garantire la sicurezza.

D: Il target di sputtering all'arseniuro di gallio è adatto sia per la ricerca che per le applicazioni industriali?
R: Assolutamente sì, le sue elevate prestazioni e la sua affidabilità lo rendono ideale sia per la ricerca di laboratorio che per la produzione industriale su larga scala nei settori dei semiconduttori e dell'optoelettronica.