ST0933 Target di sputtering al seleniuro di alluminio, Al2Se3

Descrizione del target di sputtering al seleniuro di alluminio

Il target di sputtering al seleniuro di alluminio, Al2Se3, è progettato per garantire prestazioni superiori nei processi di deposizione per sputtering. Prodotto con una purezza del ≥99% e disponibile in dischi o in forme personalizzate, questo target assicura una deposizione affidabile e di alta qualità nelle applicazioni di semiconduttori e di rivestimento avanzato. Con un punto di fusione di 1000 °C e una densità di 3,43 g/cm³, il prodotto è progettato per resistere a processi industriali ad alta temperatura e offre un'eccellente stabilità. Il legame con l'indio migliora il supporto termico e meccanico durante lo sputtering, rendendolo una scelta ideale per le applicazioni di precisione.

Applicazioni del target di sputtering al seleniuro di alluminio

- Deposizione di semiconduttori: Ideale per l'applicazione di film sottili uniformi nella microelettronica.
- Rivestimenti avanzati: Eccellente per rivestimenti ottici, strati resistenti all'usura e film protettivi.
- Ricerca sui materiali: Utilizzato in configurazioni sperimentali per la ricerca di nuovi materiali.
- Fabbricazione industriale: Supporta processi ad alta temperatura in vari ambienti di produzione.
- Soluzioni industriali personalizzate: Adattabili a requisiti industriali specifici con dimensioni e forme personalizzate.

Imballaggio del target di sputtering al seleniuro di alluminio

I nostri target di sputtering al seleniuro di alluminio sono imballati con la massima cura per mantenere l'integrità del prodotto durante il trasporto e lo stoccaggio. L'imballaggio standard comprende confezioni sigillate sottovuoto e offriamo soluzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti di consegna e quantità specifiche.

Domande frequenti

D: Cosa rende il seleniuro di alluminio adatto alle applicazioni di sputtering?
R: Il seleniuro di alluminio possiede proprietà uniche del materiale, come l'elevata purezza e la stabilità termica, che sono fondamentali per ottenere film sottili uniformi nei processi di sputtering.

D: Quali forme sono disponibili per il target di sputtering?
R: Il target è disponibile in forme standard a disco o può essere personalizzato per soddisfare esigenze applicative specifiche.

D: In che modo il legame con l'indio contribuisce alle prestazioni del target?
R: Il legame con l'indio fornisce un maggiore supporto termico e meccanico durante il processo di sputtering, garantendo prestazioni stabili in condizioni rigorose.

D: Questo target di sputtering può sopportare applicazioni ad alta temperatura?
R: Sì, con un punto di fusione di 1000 °C, questo target di seleniuro di alluminio è adatto per applicazioni industriali e di ricerca ad alta temperatura.

D: Come posso ordinare una dimensione personalizzata per la mia applicazione?
R: È sufficiente contattare il nostro team di vendita con le vostre specifiche e vi forniremo soluzioni personalizzate in base alle vostre esigenze.