ST0928 Target di sputtering al fluoruro di neodimio, NdF3

Descrizione del target sputtering al fluoruro di neodimio

Il target sputtering al fluoruro di neodimio, NdF3, è progettato per garantire precisione e affidabilità nelle applicazioni high-tech. Prodotto con un'attenzione particolare al raggiungimento di una purezza ≥99%, il target è disponibile in forma di disco o come design personalizzato per soddisfare requisiti di produzione specifici. L'eccellente stabilità termica, indicata dal punto di fusione di 1410 °C, e l'elevata densità di 7,0 g/cm³ lo rendono ideale per i processi di sputtering avanzati. L'incorporazione dell'indio come agente legante ne migliora ulteriormente le prestazioni, garantendo una deposizione costante del materiale e la stabilità del processo durante le operazioni di sputtering.

Applicazioni dei target di sputtering al fluoruro di neodimio

- Produzione di semiconduttori: Essenziale per il deposito di film sottili nella microelettronica.
- Rivestimenti ottici: Utilizzati nella produzione di componenti ottici di alta precisione.
- Ricerca avanzata sui materiali: Ideale per lo sputtering sperimentale nei laboratori di ricerca e sviluppo.
- Deposizione di film sottili: Assicura una deposizione uniforme per la produzione di sensori e dispositivi innovativi.

Imballaggio dei target di sputtering al fluoruro di neodimio

Ogni target è confezionato meticolosamente per garantire la minima contaminazione e la massima conservazione della qualità. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche degli istituti di ricerca e delle applicazioni industriali.

Domande frequenti

D: Qual è l'applicazione principale del target sputtering al fluoruro di neodimio?
R: Viene utilizzato principalmente nei processi di sputtering per la produzione di semiconduttori, la deposizione di film sottili e i rivestimenti ottici.

D: Come viene garantita la purezza del target NdF₃?
R: I nostri target sono prodotti in base a rigorosi protocolli di controllo della qualità, che garantiscono un livello di purezza ≥99%.

D: Posso ordinare una forma di target personalizzata?
R: Sì, offriamo forme personalizzate per soddisfare requisiti di produzione specifici.

D: Quali sono le raccomandazioni per lo stoccaggio di questi target di sputtering?
R: Si consiglia di conservarli in un ambiente controllato e asciutto per evitare la contaminazione e la degradazione.

D: In che modo il legame con l'indio influenza il processo di sputtering?
R: Il legame con l'indio migliora l'adesione e garantisce una deposizione uniforme del materiale durante le operazioni di sputtering.