ST0925 Target di sputtering al boruro di molibdeno, Mo2B

Descrizione del target di sputtering al boruro di molibdeno

Il target di sputtering al boruro di molibdeno, Mo2B, è progettato per garantire prestazioni superiori nei processi di deposizione per sputtering. Prodotto con tecniche all'avanguardia e garantendo un livello di purezza ≥99%, questo target offre un'eccezionale coerenza e affidabilità per la deposizione di film sottili. Offre un'eccellente stabilità termica e mantiene la sua integrità in condizioni di alta temperatura, rendendolo una scelta ideale per applicazioni nell'elettronica, nell'optoelettronica e in altri settori ad alta tecnologia. La possibilità di realizzare forme personalizzate ne aumenta ulteriormente la versatilità in varie applicazioni industriali avanzate.

Applicazioni dei target di sputtering al boruro di molibdeno

- Deposizione di film sottili: Ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori e nella microelettronica.
- Rivestimenti ottici: Ideale per la produzione di rivestimenti riflettenti e antiriflesso di alta qualità.
- Rivestimenti avanzati: Adatti ai settori aerospaziale, automobilistico ed energetico che necessitano di film robusti e affidabili.
- Ricerca e sviluppo: Impiegato in laboratori accademici e industriali per studi e innovazioni sui materiali all'avanguardia.

Imballaggio del target di sputtering al boruro di molibdeno

Il nostro target di sputtering al boruro di molibdeno è confezionato con cura per mantenere l'integrità e la purezza del materiale durante lo stoccaggio e il trasporto. Le opzioni di confezionamento includono sacchetti sigillati sottovuoto per i dischi standard e soluzioni di confezionamento personalizzate disponibili su richiesta per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering al boruro di molibdeno?
R: Viene utilizzato principalmente nella deposizione per sputtering per la produzione di semiconduttori, nei rivestimenti a film sottile per l'ottica e nei trattamenti superficiali avanzati nelle industrie high-tech.

D: Come viene mantenuta l'elevata purezza (≥99%) di questo target sputtering?
R: Il prodotto è fabbricato in base a rigorosi protocolli di controllo della qualità che utilizzano tecniche avanzate di purificazione e lavorazione per garantire livelli di purezza costanti.

D: Posso richiedere una forma o una dimensione personalizzata per il target di sputtering?
R: Sì, i target possono essere realizzati su misura per soddisfare requisiti specifici di progettazione e applicazione.

D: Qual è il ruolo del legame di indio in questo prodotto?
R: Il legante di indio è utilizzato per la sua eccellente conducibilità elettrica e per le sue affidabili proprietà di connessione, che sono fondamentali nei processi di sputtering.

D: Come deve essere maneggiato e conservato il target di sputtering?
R: Deve essere maneggiato con cura utilizzando un'adeguata attrezzatura protettiva e conservato nella confezione sottovuoto fornita per evitare la contaminazione e preservare l'integrità del materiale.