ST0920 Target per sputtering al biossido di vanadio, VO2

Descrizione del target di sputtering al biossido di vanadio, VO2

Il target di sputtering al biossido di vanadio, VO2, è stato progettato per ottenere prestazioni superiori nei processi di deposizione e rivestimento di alto livello. Sviluppato con un rigoroso controllo di qualità e tecniche di produzione avanzate, questo target presenta una stabilità termica e un'uniformità eccezionali, fondamentali per le applicazioni di precisione. L'elevata purezza e il design personalizzabile garantiscono prestazioni ottimali sia in ambienti di ricerca che industriali. Le proprietà uniche del VO₂ lo rendono particolarmente interessante per le applicazioni che richiedono un controllo preciso delle caratteristiche di commutazione elettrica e ottica.

Target sputtering di biossido di vanadio, applicazioni VO2

- Deposizione di semiconduttori: Ideale per la fabbricazione di film sottili nella produzione di semiconduttori.
- Optoelettronica: Utilizzato in dispositivi come finestre intelligenti e sensori a infrarossi grazie alle sue proprietà uniche di transizione di fase.
- Componenti RF: Adatto alla produzione di dispositivi a radiofrequenza e di circuiti ad alta frequenza.
- Ricerca e sviluppo: Impiegato in configurazioni sperimentali che esplorano proprietà avanzate dei materiali e nuove applicazioni.
- Processi di rivestimento: Utilizzato nelle tecniche di deposizione fisica da vapore per ottenere rivestimenti uniformi e di alta qualità.

Target sputtering al biossido di vanadio, imballaggio VO2

Il nostro target di sputtering al biossido di vanadio, VO2, è confezionato con cura per evitare contaminazioni e danni durante il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, assicurando che il prodotto mantenga le sue condizioni incontaminate fino all'uso.

Domande frequenti

D: Qual è l'importanza dell'elevata purezza (≥99%) del target di sputtering VO₂?
R: L'elevata purezza garantisce una contaminazione minima durante il processo di deposizione, che è fondamentale per ottenere le proprietà elettriche e ottiche desiderate nei film sottili.

D: Perché è stato scelto il processo di sputtering RF per depositare strati di VO₂?
R: Lo sputtering a radiofrequenza offre un controllo superiore sui parametri di deposizione, consentendo uno spessore uniforme del film e proprietà coerenti del materiale, essenziali per le applicazioni elettroniche e optoelettroniche avanzate.

D: Come possono i clienti richiedere forme personalizzate per il target di sputtering?
R: I clienti possono specificare i requisiti di forma e dimensione durante il processo di ordinazione e il nostro team lavorerà a stretto contatto per adattare il prodotto alle loro specifiche esigenze applicative.

D: Quali sono alcune delle applicazioni principali per i target sputtering VO₂?
R: I target di sputtering VO₂ sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella tecnologia delle finestre intelligenti, nei sensori a infrarossi, nella produzione di componenti RF e in varie applicazioni di R&S.

D: Come deve essere conservato il target di sputtering VO₂ per mantenerne la qualità?
R: Si consiglia di conservare il target in un ambiente pulito e asciutto, con un'esposizione minima a polvere e umidità. Un imballaggio adeguato e una manipolazione sicura durante lo stoccaggio sono essenziali per preservare le sue proprietà di alta qualità.