ST0914 Bersaglio di sputtering all'ossido di nichel e litio, LiNiO2

Descrizione del target di sputtering all'ossido di nichel e litio

Il target di sputtering all'ossido di nichel e litio, LiNiO2, è progettato per soddisfare le rigorose esigenze delle moderne tecnologie di deposizione a film sottile. Prodotto con una purezza del ≥99% e con forme e dimensioni personalizzabili, questo target garantisce prestazioni costanti in applicazioni di alta precisione. La sua composizione robusta e l'elevato punto di fusione lo rendono adatto ad ambienti che richiedono processi di sputtering stabili e affidabili, migliorando le prestazioni dei dispositivi in settori critici.

Applicazioni del target di sputtering all'ossido di nichel e litio

- Fabbricazione di semiconduttori: Ideale per la deposizione di film sottili nei circuiti elettronici e nei microdispositivi.
- Batterie a film sottile: Utilizzate nella produzione di sistemi avanzati di stoccaggio dell'energia, dove le prestazioni e la durata sono fondamentali.
- Display elettronici: Supporta i processi di rivestimento nei display ad alta risoluzione e nelle applicazioni dei sensori.
- Tecnologie di rivestimento: Impiegate nell'ingegneria delle superfici per migliorare la resistenza all'usura e la conduttività elettrica dei componenti industriali.

Imballaggio dei target di sputtering all'ossido di nichel e litio

I nostri target sputtering all'ossido di nichel e litio sono confezionati in condizioni controllate per mantenere la loro elevata purezza e le loro prestazioni.
- Imballaggio standard: Contenitori sigillati sotto vuoto per garantire una contaminazione minima.
- Imballaggio personalizzato: Disponibile in base alle specifiche richieste del cliente per garantire l'integrità del prodotto durante il trasporto e lo stoccaggio.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering all'ossido di nichel e litio?
R: Viene utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella fabbricazione di semiconduttori, nella produzione di batterie a film sottile, nei display elettronici e nei processi di rivestimento avanzati.

D: Come viene mantenuta l'elevata purezza del ≥99% durante la produzione?
R: Il nostro processo di produzione incorpora tecniche di purificazione all'avanguardia e un rigoroso controllo di qualità, assicurando che ogni target soddisfi gli elevati standard di purezza.

D: Il target può essere personalizzato in base a dimensioni e forme specifiche?
R: Sì, il target di sputtering all'ossido di nichel e litio è disponibile in forme standard a disco o può essere personalizzato per soddisfare particolari requisiti applicativi.

D: Perché si sceglie l'ossido di litio e nichel per i target di sputtering?
R: L'ossido di nichel e litio offre un'eccellente stabilità termica e prestazioni in condizioni di alta temperatura, che lo rendono particolarmente adatto ai processi avanzati di deposizione di film sottili.

D: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per questi target di sputtering?
R: Si consiglia di conservare i target in un ambiente controllato e asciutto e di utilizzare un imballaggio sigillato sottovuoto per evitare la contaminazione e preservare l'integrità del prodotto.