ST0895 Bersaglio di sputtering al cobalto e ferro boro, Co/Fe/B

Descrizione del target di sputtering al cobalto e ferro boro

Il target di sputtering cobalto-ferro-boro, Co/Fe/B, è prodotto con una purezza del ≥99% ed è disponibile in dischi o in forme personalizzate. Caratterizzato da un legame con l'indio, questo target è ottimizzato per l'uso nei processi di sputtering, garantendo una deposizione uniforme del film e prestazioni superiori in applicazioni critiche.

Applicazioni dei target di sputtering al cobalto ferro boro

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di film uniformi e di alta qualità nella microelettronica e nei dispositivi a semiconduttore.
- Memorizzazione magnetica: Migliora le proprietà magnetiche nelle applicazioni di archiviazione dati.
- Tecnologia dei display: Utilizzata nei processi di produzione di display LCD e OLED.
- Fotovoltaico: impiegato nella produzione di pannelli solari, per migliorare la conduzione elettrica e l'efficienza.

Imballaggio del target di sputtering al cobalto e ferro boro

Il nostro target di cobalto ferro boro sputtering è confezionato con cura per garantire una qualità ottimale durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate in base alle vostre esigenze specifiche.

Domande frequenti

D: Quali sono le principali applicazioni del target di sputtering al ferro cobalto e boro?
R: Viene utilizzato principalmente nei processi di deposizione di film sottili per la microelettronica, l'archiviazione magnetica, la tecnologia dei display e le applicazioni fotovoltaiche.

D: Qual è il livello di purezza di questo target sputtering?
R: Il target è prodotto con una purezza del ≥99%.

D: In quali forme è disponibile il target?
R: Il target è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato in base alle vostre esigenze.

D: Qual è il ruolo del legame di indio in questo prodotto?
R: Il legame con l'indio migliora la conduttività elettrica e termica, che è fondamentale per ottenere una deposizione uniforme del film durante lo sputtering.