ST0879 Bersaglio di sputtering al litio lantanio zirconato

Descrizione del target di sputtering al litio lantanio zirconato

Il target di sputtering al litio-lantanio-zirconato offre prestazioni eccezionali per applicazioni avanzate di sputtering e deposizione di film sottili. Prodotto con un'attenzione particolare all'elevata purezza e precisione, questo target è progettato per fornire risultati costanti in ambienti industriali e di ricerca esigenti. Le sue forme e dimensioni personalizzabili assicurano una compatibilità ottimale con un'ampia gamma di sistemi di deposizione, rendendolo la scelta preferita per la microelettronica, i rivestimenti ottici e altre applicazioni high-tech.

Applicazioni dei target di sputtering al litio lantanio zirconato

- Deposizione di film sottili: Ideale per la deposizione di strati dielettrici, ceramiche e rivestimenti funzionali nella microelettronica.
- Microelettronica: Utilizzato nella fabbricazione di dispositivi semiconduttori e pannelli di visualizzazione che richiedono elevata precisione e uniformità.
- Dispositivi energetici: Adatto per l'applicazione in sensori e componenti per celle a combustibile a ossidi solidi.
- Ricerca e sviluppo: Fornisce un'opzione di materiale affidabile per le indagini sperimentali e lo sviluppo di prototipi nella ricerca sui materiali avanzati.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al litio-lantanio-zirconato

I nostri target di sputtering al litio-lantanio-zirconato sono imballati in modo sicuro per mantenere la loro integrità durante il trasporto. Le opzioni di imballaggio includono dischi standard sigillati sottovuoto, con soluzioni di imballaggio personalizzate disponibili su richiesta.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali dei target sputtering al litio-lantanio-zirconato?
R: Sono utilizzati principalmente nella deposizione di film sottili per la microelettronica, i rivestimenti ottici, i dispositivi energetici e la ricerca sui materiali avanzati.

D: Come viene mantenuta l'elevata purezza (≥99%) del target sputtering?
R: La purezza è garantita da rigorosi processi di produzione e da severe misure di controllo della qualità durante tutta la produzione.

D: È possibile personalizzare la forma e le dimensioni del target di sputtering?
R: Sì, i target possono essere prodotti in dischi o con design personalizzati per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: Quali sono i settori industriali che traggono i maggiori vantaggi dall'utilizzo di questo target di sputtering?
R: Industrie come la microelettronica, l'optoelettronica, i dispositivi energetici e i laboratori di ricerca beneficiano delle sue prestazioni affidabili.

D: Quale ulteriore supporto è disponibile per ottimizzare i parametri di sputtering?
R: Il nostro team di assistenza tecnica è a disposizione per fornire indicazioni sull'ottimizzazione dei parametri di sputtering per soddisfare le vostre specifiche esigenze applicative.