ST0533 Target di tetracloroalluminato di litio (LiAlCl4) per sputtering

Descrizione del target di sputtering in tetracloroalluminato di litio

Il target di sputtering in tetracloroalluminato di litio è stato progettato per garantire un'elevata consistenza ed efficienza nelle applicazioni di sputtering. Prodotto con un rigoroso livello di purezza ≥99%, questo target garantisce prestazioni superiori durante i processi di deposizione. Offrendo forme versatili, tra cui dischi o configurazioni personalizzate, è ideale per processi specializzati che richiedono proprietà controllate del materiale. La sua composizione unica supporta le applicazioni che richiedono una precisa uniformità e affidabilità del film sottile, rendendolo una scelta preferenziale per le applicazioni industriali critiche.

Applicazioni dei target di sputtering in tetracloroalluminato di litio

- Fabbricazione di semiconduttori: Essenziale per la deposizione sputtering nella microelettronica.
- Rivestimenti ottici: Utilizzato nella produzione di componenti ottici di precisione che richiedono film sottili controllati.
- Trattamento delle superfici: Ideale per creare rivestimenti uniformi e ad alte prestazioni su vari substrati.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per applicazioni esplorative nelle scienze dei materiali avanzate.

Imballaggio del bersaglio di sputtering in tetracloroalluminato di litio

I nostri target sputtering al tetracloroalluminato di litio sono confezionati su misura per soddisfare i vostri requisiti specifici. Le opzioni di imballaggio standard includono contenitori sigillati sottovuoto per piccole quantità e imballaggi sfusi per ordini su larga scala, garantendo l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering in tetracloroalluminato di litio?
R: Viene utilizzato principalmente nella fabbricazione di semiconduttori, nei rivestimenti ottici, nel trattamento delle superfici e nelle applicazioni di ricerca che prevedono la deposizione di film sottili.

D: Che cosa indica il livello di purezza ≥99% per questo target sputtering?
R: Un livello di purezza ≥99% garantisce impurità minime, fondamentali per ottenere prestazioni di sputtering precise e affidabili in applicazioni sensibili.

D: Sono disponibili dimensioni personalizzate per il target di sputtering in tetracloroalluminato di litio?
R: Sì, il target è disponibile in forme e dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: In che modo il punto di fusione influenza il processo di sputtering?
R: Il punto di fusione di 143 °C è un parametro chiave durante il processo di sputtering, che assicura un comportamento controllato del materiale nelle condizioni operative.

D: Cosa devo considerare quando conservo i target di sputtering in tetracloroalluminato di litio?
R: È importante conservare i target in un ambiente asciutto e a temperatura controllata e seguire le linee guida di imballaggio raccomandate per mantenere l'integrità del prodotto nel tempo.