ST0526 Target di sputtering in trisolfuro di arsenico (As2S3)

Descrizione del target di sputtering in trisolfuro di arsenico (As2S3)

Il target di sputtering al trisolfuro di arsenico (As2S3) è progettato per offrire prestazioni eccezionali nei processi di deposizione di film sottili. Prodotto con rigorosi controlli di qualità, questo target assicura tassi di sputtering uniformi e un'eccellente qualità del film per applicazioni di semiconduttori, optoelettronica e display. La sua elevata purezza (≥99%) garantisce prestazioni costanti in ambienti di produzione esigenti, mentre l'esclusivo legame con l'indio e l'elastomero ne aumenta la stabilità meccanica durante il funzionamento.

Applicazioni del target di sputtering al trisolfuro di arsenico (As2S3)

- Deposizione di film sottili: Ideale per produrre film di alta qualità nella produzione di semiconduttori e display.
- Lavorazione dei semiconduttori: Essenziale per la produzione di circuiti integrati e altre applicazioni elettroniche ad alta tecnologia.
- Optoelettronica: Adatto per rivestimenti ottici avanzati in dispositivi come LED e fotorivelatori.
- Celle solari: Utilizzato nella deposizione di strutture multistrato nella produzione di pannelli fotovoltaici.

Imballaggio del target di sputtering in trisolfuro di arsenico (As2S3)

I nostri target di sputtering al trisolfuro di arsenico sono confezionati con cura per mantenere l'integrità e le prestazioni del prodotto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, garantendo un trasporto e uno stoccaggio sicuri.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering al trisolfuro di arsenico (As2S3)?
R: È utilizzato principalmente nei processi di deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, optoelettronica e display.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) dell'As2S3 contribuisce alle sue prestazioni?
R: L'elevata purezza riduce al minimo la contaminazione e garantisce un comportamento uniforme dello sputtering, che è fondamentale per i processi di deposizione ad alte prestazioni.

D: Quali forme sono disponibili per questo target di sputtering?
R: Il target è disponibile in forma di disco e può anche essere realizzato su misura per soddisfare specifici requisiti di design e dimensionali.

D: Qual è il significato dell'uso di legami di indio ed elastomero in questo target di sputtering?
R: La combinazione di legami di indio ed elastomero migliora la stabilità meccanica e l'efficienza dello sputtering, garantendo prestazioni affidabili durante il funzionamento.

D: Sono disponibili dimensioni personalizzate per questo prodotto?
R: Sì, il target di sputtering al trisolfuro di arsenico è disponibile in dimensioni personalizzate per soddisfare le varie esigenze applicative e le specifiche di progettazione.