ST0517 Bersaglio di sputtering in ossido di zirconio con ossido di calcio (ZrO2/CaO)

Descrizione del target di sputtering in ossido di zirconio con ossido di calcio (ZrO2/CaO)

Il target di ossido di zirconio con ossido di calcio (ZrO2/CaO) è stato progettato per ottenere prestazioni superiori nelle applicazioni di sputtering. Prodotto con una composizione di elevata purezza (≥99%), questo target garantisce una deposizione costante e una maggiore uniformità del film. Ottimizzato per l'uso nella microelettronica, nella produzione di semiconduttori e nei processi di rivestimento avanzati, le sue forme e confezioni personalizzabili garantiscono l'integrazione in diversi ambienti produttivi. L'esclusiva formulazione offre eccellenti proprietà di stabilità chimica e di adesione, rendendola ideale per le applicazioni in cui affidabilità e precisione sono fondamentali.

Ossido di zirconio con ossido di calcio (ZrO2/CaO) Applicazioni dei target sputtering

- Produzione di semiconduttori: Essenziale per la microelettronica e la produzione di circuiti integrati.
- Deposizione di film sottili: Ideale per ottenere rivestimenti uniformi e di alta qualità in dispositivi ottici e sensori.
- Processi di rivestimento avanzati: Utilizzati per creare strati protettivi e resistenti all'usura su componenti industriali.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per tecniche sperimentali di sputtering in laboratori accademici e aziendali.

Imballaggio dei target di sputtering in ossido di zirconio e ossido di calcio (ZrO2/CaO)

I nostri target sputtering sono imballati in modo sicuro per mantenere una qualità ottimale durante lo stoccaggio e il trasporto. Ogni target è sigillato sotto vuoto ed è disponibile in opzioni di imballaggio personalizzate in base alle esigenze del cliente.

Domande frequenti

D: Quali vantaggi offre il target sputtering ZrO2/CaO nella deposizione di film sottili?
R: L'elevata purezza (≥99%) e la composizione stabile del target di sputtering ZrO2/CaO consentono una deposizione uniforme del film con un'eccellente adesione e una formazione minima di difetti.

D: Il target può essere personalizzato in termini di forma e dimensioni?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o in configurazioni personalizzate per soddisfare i requisiti specifici del sistema di sputtering.

D: Quali sono i settori industriali che traggono i maggiori vantaggi dall'utilizzo di questo target di sputtering?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, l'ottica a film sottile, i rivestimenti avanzati e i laboratori di ricerca traggono vantaggio dalle prestazioni affidabili del target e dalla qualità costante del film.

D: Come viene garantita la qualità del target di sputtering?
R: Il target viene fabbricato in base a rigorose misure di controllo della qualità con materiali di elevata purezza e tecniche di lavorazione avanzate per garantire prestazioni e coerenza.

D: Quali sono le opzioni di confezionamento disponibili per i target di sputtering?
R: I target sono sigillati sotto vuoto e possono essere confezionati in varie dimensioni secondo le specifiche del cliente per garantire un trasporto e uno stoccaggio sicuri.