(Fuori produzione) ST0510 Bersaglio di sputtering al titanio e zirconio (Ti/Zr)

Descrizione del target di sputtering al titanio-zirconio (Ti/Zr)

Il target di sputtering in titanio-zirconio (Ti/Zr) è progettato per applicazioni di deposizione e rivestimento di film sottili ad alte prestazioni. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target soddisfa le rigorose esigenze della produzione di semiconduttori, dei rivestimenti ottici e di altri processi industriali avanzati. Le sue opzioni di dimensionamento personalizzabili e il legame affidabile con l'indio e l'elastomero garantiscono prestazioni ottimali e versatilità per vari sistemi di sputtering.

Applicazioni dei target di sputtering in titanio-zirconio (Ti/Zr)

- Produzione di semiconduttori: Ideale per la deposizione di film sottili conduttivi o protettivi nella microelettronica.
- Rivestimenti ottici: Offre proprietà eccellenti per rivestimenti antiriflesso e ad alta riflessione su componenti ottici.
- Deposizione di film sottili: Utilizzata nei processi di rivestimento avanzati per migliorare le proprietà superficiali di strumenti e dispositivi industriali.
- Ricerca e sviluppo: Adatto ai processi sperimentali di sputtering e agli studi di scienza dei materiali, in cui è fondamentale l'elevata purezza dei target.

Imballaggio dei target di sputtering in titanio-zirconio (Ti/Zr)

I nostri target sputtering al titanio-zirconio (Ti/Zr) sono imballati con cura per mantenere la loro qualità durante il trasporto. Ogni unità è saldamente sigillata e imbottita per soddisfare i requisiti di dimensioni personalizzate, garantendo una consegna sicura alla vostra struttura.

Domande frequenti

D: Qual è il livello di purezza del target di sputtering titanio-zirconio?
R: Il target è prodotto con una purezza ≥99%, che garantisce prestazioni elevate per applicazioni di sputtering sensibili.

D: Posso richiedere forme personalizzate per il target?
R: Sì, il prodotto è disponibile come disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici di dimensione e forma.

D: Quali tipi di legami sono utilizzati in questo target di sputtering?
R: Il target utilizza legami di indio ed elastomero, selezionati per garantire stabilità e prestazioni ottimali durante i processi di sputtering.

D: Quali industrie possono trarre vantaggio dall'uso di questo target di sputtering al titanio e zirconio?
R: È ideale per la produzione di semiconduttori, rivestimenti ottici, deposizione di film sottili e applicazioni di ricerca avanzata.

D: Come viene confezionato il prodotto per la spedizione?
R: Il target è saldamente sigillato sottovuoto e imbottito secondo le specifiche delle dimensioni personalizzate per garantire che arrivi in condizioni perfette.