(Fuori produzione) ST0493 Bersaglio per sputtering di cobalto-tantalio-zirconio (Co/Ta/Zr)

Descrizione del target di sputtering in cobalto-tantalio-zirconio (Co/Ta/Zr)

Il target di sputtering cobalto-tantalio-zirconio (Co/Ta/Zr) è progettato per applicazioni di deposizione di film sottili ad alta precisione. Prodotto per soddisfare rigorosi standard di qualità con un livello di purezza ≥99%, questo target è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato per soddisfare le esigenze specifiche dell'utente. È ideale per la fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti ottici e altre applicazioni che richiedono prestazioni di sputtering affidabili. Il design robusto del target e le opzioni di incollaggio specializzate (indio, elastomero) garantiscono un'aderenza e una durata ottimali durante il processo di deposizione.

Applicazioni del target di sputtering cobalto-tantalio-zirconio (Co/Ta/Zr)

- Fabbricazione di semiconduttori: Assicura la deposizione uniforme di film sottili per dispositivi microelettronici.
- Rivestimenti ottici: Fornisce film di alta qualità per lenti, specchi e altri componenti ottici.
- Laboratori di ricerca: Ideale per le configurazioni sperimentali negli studi sui materiali avanzati.
- Dispositivi energetici: Utili nella produzione di componenti per celle solari e altre applicazioni energetiche.
- Processi industriali personalizzati: Adattabile a requisiti di sputtering specializzati in vari settori industriali.

Imballaggio dei target di sputtering in cobalto-tantalio-zirconio (Co/Ta/Zr)

I nostri target sputtering sono trattati con cura durante il processo di produzione e spedizione per mantenere l'integrità del prodotto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le diverse esigenze dei clienti. I prodotti possono essere spediti in imballaggi antistatici e sigillati sotto vuoto per preservare la qualità durante il trasporto.

Domande frequenti

D: Qual è l'applicazione principale del target di sputtering Co/Ta/Zr?
R: Viene utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nei rivestimenti ottici e nei laboratori di ricerca.

D: Come viene prodotto il target per garantire un'elevata purezza?
R: Il target è prodotto con tecniche di fabbricazione avanzate e sotto un rigoroso controllo di qualità per garantire un livello di purezza ≥99%.

D: Posso richiedere una dimensione o una forma personalizzata per il mio target di sputtering?
R: Sì, il prodotto è disponibile come disco o può essere personalizzato in base alle specifiche esigenze del cliente.

D: Quali tipi di incollaggio sono disponibili con questo target di sputtering?
R: Il target è disponibile con opzioni per l'incollaggio di indio ed elastomero per soddisfare le diverse esigenze di lavorazione.

D: Come deve essere conservato il target di sputtering per mantenere la sua qualità?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto, possibilmente nella confezione originale antistatica e sigillata sotto vuoto per evitare contaminazioni e danni fisici.