(Fuori produzione) ST0475 Bersaglio di sputtering in ittrio ferrite (Y3Fe5O12)

Descrizione del target di sputtering in ittrio ferrite (Y3Fe5O12)

Il target di ittrio ferritico (Y3Fe5O12) è progettato per fornire risultati ad alte prestazioni nei processi di deposizione di film sottili. Prodotto secondo i più alti standard di qualità con un livello di purezza ≥99%, questo target è ideale per le applicazioni che richiedono precisione e affidabilità. Offerto in formati di disco standard o in forme personalizzate, serve un'ampia gamma di progetti di ricerca e tecnologia avanzata.

Applicazioni del target sputtering di ittrio ferrite (Y3Fe5O12)

- Deposizione di film sottili: Essenziale per la produzione di film uniformi e di alta qualità nelle tecnologie dei semiconduttori e dei display.
- Microelettronica: Utilizzato nella fabbricazione di circuiti integrati e dispositivi elettronici avanzati.
- Rivestimenti ottici: Fornisce una fonte di materiale affidabile per il deposito di rivestimenti riflettenti e antiriflesso.
- Dispositivi magnetici: Fondamentale nella produzione di componenti per applicazioni di archiviazione magnetica e sensori.

Imballaggio del target sputtering di ittrio ferrite (Y3Fe5O12)

Il prodotto viene imballato con cura per preservarne l'integrità durante il trasporto. Sono disponibili soluzioni di imballaggio personalizzate per garantire che il target sputtering raggiunga i nostri clienti in condizioni perfette, in base alle loro specifiche esigenze.

Domande frequenti

Q1: Che cos'è un bersaglio sputtering?
R: Un bersaglio sputtering è un blocco di materiale utilizzato nei processi di deposizione fisica del vapore (PVD) per generare film sottili su substrati bombardando la sua superficie con particelle energetiche.

D2: Quali vantaggi offre la ferrite di ittrio (Y3Fe5O12) nelle applicazioni di sputtering?
R: La ferrite di ittrio offre un'elevata purezza e prestazioni costanti, che la rendono adatta ai processi di deposizione che richiedono la formazione di film di alta qualità nella produzione di dispositivi elettronici e ottici.

D3: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, il target è disponibile come disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici di progettazione e applicazione.

D4: Perché è importante un livello di purezza ≥99% per i target di sputtering?
R: L'elevata purezza riduce al minimo la presenza di impurità nei film sottili, assicurando che i rivestimenti risultanti abbiano proprietà elettriche, ottiche e strutturali superiori.

D5: In quali settori industriali sono comunemente utilizzati i target sputtering in ittrio ferrite?
R: Sono ampiamente utilizzati nella microelettronica, nella fabbricazione di dispositivi ottici, nei sistemi di memorizzazione magnetica e in varie applicazioni di ricerca sui materiali avanzati.