ST0469 Alluminato di stronzio drogato con europio (SrAl2O4) con target di sputtering al 3 wt% di Eu

Descrizione del target di sputtering

Il target di sputtering è composto da alluminato di stronzio di elevata purezza drogato con europio (3 wt% Eu), che garantisce prestazioni eccezionali per i processi di deposizione di film sottili. Prodotto sotto rigorosi controlli di qualità, questo target è ideale per le applicazioni che richiedono un trasferimento preciso del materiale durante lo sputtering. Le sue forme personalizzabili, tra cui dischi e configurazioni su misura, lo rendono una soluzione versatile per la ricerca e le applicazioni industriali.

Applicazioni dei target di sputtering

- Deposizione di film sottili: Ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori e dei display per depositare film sottili uniformi.
- Rivestimenti superficiali: Ideale per rivestire substrati con strati funzionali e resistenti alla corrosione.
- Ricerca e sviluppo: Adatta per le configurazioni sperimentali e la produzione di prototipi nei laboratori di materiali avanzati.
- Dispositivi elettronici: Impiegati nella fabbricazione di componenti elettronici e sensori ad alte prestazioni.

Imballaggio dei target sputtering

I nostri target sputtering sono imballati con cura per garantire che arrivino al cliente in condizioni immacolate. L'imballaggio standard comprende singole unità sigillate sotto vuoto, con opzioni di imballaggio personalizzate disponibili su richiesta.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali di questo target di sputtering?
R: È utilizzato principalmente nella deposizione di film sottili per l'industria dei semiconduttori, dei display e dei rivestimenti, nonché nella ricerca e sviluppo di materiali avanzati.

D: In che modo il drogaggio con Europio influisce sulle prestazioni?
R: Il drogaggio con il 3 wt% di europio migliora le proprietà luminescenti del target, rendendolo adatto ad applicazioni che richiedono fotoluminescenza e una precisa modulazione del materiale.

D: Il target può essere personalizzato per forma e dimensioni?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici di progettazione e processo.

D: Qual è il significato di un livello di purezza ≥99%?
R: Un livello di purezza ≥99% garantisce prestazioni elevate e affidabilità nei processi di sputtering, riducendo le impurità che potrebbero influire sulla qualità del film sottile.

D: Come deve essere maneggiato e conservato il target di sputtering?
R: Deve essere maneggiato con cura per evitare contaminazioni o danni fisici e conservato in un ambiente pulito e asciutto, seguendo le linee guida raccomandate per l'imballaggio.