(Fuori produzione) ST0467 Bersaglio di sputtering all'ossido di rame e samario (SmCuO4 e Sm2CuOx)

Descrizione del target di sputtering all'ossido di rame e samario (SmCuO4 e Sm2CuOx)

Il target di sputtering all'ossido di rame e samario è progettato per una deposizione precisa e affidabile di film sottili. Prodotto con particolare attenzione all'elevata purezza (≥99%) e alle configurazioni personalizzabili, questo target è ideale per la deposizione di film di ossido complessi utilizzati in dispositivi microelettronici, sensori e applicazioni energetiche. La composizione unica di SmCuO4/Sm2CuOx offre eccellenti proprietà di adesione e caratteristiche uniformi del film, rendendolo una scelta preferenziale in contesti di ricerca e produzione avanzati.

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di rame e samario (SmCuO4 e Sm2CuOx)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di film di ossido di alta qualità nella microelettronica, nella tecnologia dei display e nei dispositivi di sensori.
- Processi di rivestimento: Utilizzati per la deposizione di rivestimenti protettivi e funzionali per migliorare le prestazioni e la durata dei componenti industriali.
- Ricerca e sviluppo: Ampiamente utilizzato nei laboratori e nelle linee di produzione pilota per esplorare nuove proprietà dei materiali e tecniche di fabbricazione dei dispositivi.
- Dispositivi energetici: Contribuisce alla produzione di sistemi e dispositivi energetici avanzati in cui i film di ossido svolgono un ruolo fondamentale.

Confezione dei target di sputtering all'ossido di rame e samario (SmCuO4 e Sm2CuOx)

I nostri target sputtering sono confezionati in modo sicuro per preservarne l'integrità e le prestazioni. Ogni target viene ispezionato singolarmente e confezionato in un contenitore protettivo e resistente all'umidità per garantire un trasporto e uno stoccaggio sicuri fino all'impiego.

Domande frequenti

D: Cosa rende l'ossido di rame samario il materiale preferito per i target di sputtering?
R: L'ossido di rame samario offre un'eccellente adesione e uniformità del film, rendendolo ideale per la deposizione di film sottili di alta precisione nella microelettronica e nei rivestimenti avanzati.

D: In che modo l'opzione di personalizzazione delle forme è vantaggiosa per il processo di produzione?
R: La possibilità di personalizzare le forme consente ai produttori di adattare il target di sputtering ai requisiti specifici delle apparecchiature, ottimizzando l'uniformità di deposizione e le prestazioni.

D: Questo target di sputtering può essere utilizzato per applicazioni di ricerca?
R: Sì, l'elevata purezza e la natura personalizzabile del target lo rendono una scelta eccellente sia per la produzione industriale che per le applicazioni di ricerca avanzata.

D: Quali industrie utilizzano tipicamente questo tipo di target di sputtering?
R: Industrie come la microelettronica, la produzione di display, la tecnologia dei sensori e i dispositivi energetici traggono vantaggio dall'uso di questo target di sputtering ad alte prestazioni.

D: Come deve essere conservato il target di sputtering per mantenerne la qualità?
R: Si raccomanda di conservare il target in un ambiente a umidità controllata, all'interno della sua confezione protettiva, per evitare qualsiasi degradazione prima dell'uso.