(Fuori produzione) ST0466 Target di sputtering all'ossido di rame e cerio di samario

Descrizione del target di sputtering all'ossido di rame e cerio al samario

Il target di sputtering all'ossido di rame e cerio al samario è stato progettato per garantire l'eccellenza nella deposizione di film sottili, offrendo una qualità costante e prestazioni eccezionali per le moderne applicazioni elettroniche. Prodotto con tecniche all'avanguardia, questo target garantisce una composizione chimica uniforme ed è personalizzato per le esigenze applicative più precise. L'elevata purezza e le forme personalizzabili ne fanno una scelta indispensabile per la ricerca, lo sviluppo e la produzione industriale nei settori tecnologici avanzati.

Applicazioni del target di sputtering all'ossido di rame e cerio di samario

- Deposizione di film sottili: Ideale per la creazione di film di alta qualità nelle tecnologie dei semiconduttori e dei display.
- Dispositivi superconduttori: Offre prestazioni affidabili nella fabbricazione di strati superconduttori con spessore controllato.
- Produzione elettronica: Utilizzata nella produzione di sensori, transistor e altri componenti elettronici avanzati.
- Ricerca e sviluppo: Offre una qualità costante per studi di scienza dei materiali e applicazioni sperimentali.

Imballaggio del target di sputtering in ossido di rame e cerio al samario

Il nostro target di sputtering all'ossido di rame e cerio di samario è confezionato con cura per mantenerne l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate per garantire che il materiale rimanga privo di contaminazione e soddisfi i requisiti specifici dei nostri clienti.

Domande frequenti

D: A cosa serve un target sputtering?
R: Un bersaglio sputtering viene utilizzato per depositare film sottili su substrati in varie applicazioni come l'elettronica, l'ottica e i superconduttori.

D: In che modo la composizione Sm(1-x)CexCuO4 è vantaggiosa per i processi di sputtering?
R: Questa composizione unica garantisce un'elevata purezza e uniformità, essenziali per ottenere una deposizione precisa e costante del film.

D: Le forme del target di sputtering sono personalizzabili?
R: Sì, il target è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: In quali settori industriali viene tipicamente utilizzato il target di sputtering all'ossido di rame e cerio di samario?
R: È ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nelle tecnologie di visualizzazione, nei dispositivi superconduttori e nelle applicazioni di ricerca avanzata.

D: Come deve essere conservato il target sputtering per preservarne la qualità?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e controllato, con un imballaggio adeguato, per evitare la contaminazione e mantenere le sue proprietà ad alte prestazioni.