ST0458 Target di sputtering in alluminato di neodimio (NdAlO3)

Descrizione del target di sputtering in alluminato di neodimio (NdAlO3)

Il target di neodimio alluminato (NdAlO3) è un materiale speciale fabbricato per applicazioni di sputtering di precisione. Prodotto con NdAlO3 di elevata purezza, questo target offre prestazioni eccellenti nei processi di deposizione di film sottili in ambienti industriali esigenti. È stato progettato per garantire un'elevata stabilità termica, una resa di sputtering uniforme e una resistenza alla degradazione in condizioni estreme, rendendolo ideale per applicazioni di semiconduttori, elettronica e rivestimenti avanzati.

Applicazioni del target sputtering in alluminato di neodimio (NdAlO3)

- Deposizione di film sottili: Perfetto per creare film sottili uniformi e di alta qualità nella fabbricazione di semiconduttori e dispositivi elettronici.
- Rivestimenti avanzati: Utilizzato per l'applicazione di rivestimenti protettivi e resistenti all'usura in applicazioni industriali.
- Ricerca scientifica: Ideale per i sistemi di sputtering di laboratorio che richiedono bersagli di elevata purezza per i processi sperimentali.
- Aerospaziale ed energia: Adatto per applicazioni ad alta temperatura in cui la stabilità e l'affidabilità sono fondamentali.

Imballaggio dei target di sputtering in alluminato di neodimio (NdAlO3)

I nostri target sputtering in alluminato di neodimio sono confezionati con rigorosi controlli di qualità per preservare l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto.
- Imballaggio standard: I dischi sono avvolti in modo sicuro in materiali resistenti all'umidità.
- Imballaggio personalizzato: I target personalizzati sono forniti in base alle specifiche del cliente per soddisfare i requisiti di un progetto unico.

Domande frequenti

D: Qual è l'applicazione principale del target di sputtering NdAlO3?
R: È utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, rivestimenti avanzati e applicazioni di sputtering di precisione.

D: Quali sono i settori industriali che traggono i maggiori vantaggi dall'utilizzo di questo target di sputtering?
R: Industrie come l'elettronica, la produzione di semiconduttori, l'aerospaziale e l'energia traggono vantaggio dalla sua elevata stabilità termica e dalle sue prestazioni uniformi.

D: Il target può essere personalizzato per soddisfare le esigenze di progetti specifici?
R: Sì, le dimensioni e le forme disponibili sono personalizzabili per soddisfare i diversi requisiti dei vari processi produttivi.

D: In che modo l'elevato punto di fusione di 2233 °C influisce sulle prestazioni?
R: L'elevato punto di fusione assicura che il target rimanga stabile a temperature estreme, garantendo prestazioni di sputtering costanti.

D: Quali controlli di qualità vengono effettuati per il confezionamento?
R: I nostri target sono confezionati utilizzando involucri a prova di umidità e metodi di imballaggio personalizzati per garantire l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto.