ST0438 Ossido di zinco e alluminio di indio (In2O3/Al2O3/ZnO) 65/16/19 wt% Target di sputtering

Descrizione del target di sputtering all'ossido di zinco e alluminio di indio

Il target di sputtering di ossido di indio-alluminio-zinco (In2O3/Al2O3/ZnO) 65/16/19 wt% è stato sviluppato per processi di deposizione sputtering di precisione. Prodotto con una purezza rigorosa del ≥99%, questo target garantisce prestazioni costanti e una formazione uniforme del film. Progettato per applicazioni avanzate, offre un'eccellente stabilità durante la deposizione e può essere personalizzato in dischi o altre forme per soddisfare i requisiti di produzione specifici. Ideale per le industrie high-tech, questo target di sputtering offre affidabilità e alta efficienza nella produzione di film sottili.

Applicazioni del target di sputtering all'ossido di zinco e alluminio di indio

- Deposizione di film sottili: Ampiamente utilizzato per depositare strati di ossido metallico in semiconduttori e display.
- Industria dei semiconduttori: Essenziale per la fabbricazione di circuiti integrati e dispositivi microelettronici avanzati.
- Rivestimenti ottici: Applicati nella produzione di lenti e filtri ottici con un'uniformità eccezionale.
- Celle solari: Utilizzati nella formazione di strati conduttivi trasparenti essenziali per le applicazioni fotovoltaiche.
- Ricerca e sviluppo: Perfetto per le configurazioni sperimentali negli studi di scienza dei materiali e di ingegneria delle superfici.

Imballaggio dei target sputtering all'ossido di zinco e alluminio di indio

I nostri target sputtering sono confezionati con cura per mantenere la loro integrità e le loro prestazioni. I prodotti sono sigillati sottovuoto e fissati in imballaggi personalizzati progettati per prevenire la contaminazione, assicurando che ogni target arrivi in condizioni perfette per l'uso immediato.

Domande frequenti

D: A cosa serve un target di sputtering?
R: Un target sputtering viene utilizzato nei processi di deposizione fisica del vapore per depositare film sottili su substrati per l'elettronica, l'ottica e altre applicazioni industriali.

D: In che modo la purezza del target di sputtering influisce sulle sue prestazioni?
R: Una purezza più elevata (≥99%) riduce al minimo le impurità indesiderate durante la deposizione, con conseguente uniformità delle proprietà del film e migliori prestazioni del dispositivo.

D: Il target può essere personalizzato in forme diverse?
R: Sì, il nostro prodotto è disponibile in forme di disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti industriali specifici.

D: Quali settori industriali traggono vantaggio dall'uso di questo target di sputtering?
R: È ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nella produzione di rivestimenti ottici, nella fabbricazione di celle solari e in varie applicazioni di ricerca e sviluppo.

D: Come deve essere conservato e maneggiato il target di sputtering?
R: Il target deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto e deve essere maneggiato con cura utilizzando strumenti adeguati per evitare contaminazioni o danni fisici.