Fuori produzione ST0437 Bersaglio di sputtering in ossido di cerio gadolinio (Gd0,2Ce0,8O2)

Descrizione del target di sputtering all'ossido di cerio gadolinio

Il target di sputtering all'ossido di cerio gadolinio è un materiale composito ceramico di alta qualità sintetizzato da Gd0,2Ce0,8O2, che garantisce un livello di purezza ≥99%. Progettato per applicazioni di sputtering avanzate, il target è disponibile in dischi o può essere personalizzato per soddisfare specifiche esigenze industriali. La sua composizione unica consente uno sputtering stabile e uniforme, contribuendo così alla deposizione di film sottili ad alte prestazioni con una contaminazione minima. Ideale per la produzione di semiconduttori, rivestimenti ottici e diversi processi di ingegneria delle superfici, questo target offre prestazioni costanti anche in condizioni difficili.

Applicazioni del target di sputtering all'ossido di cerio e gadolinio

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di film uniformi nella fabbricazione di semiconduttori e dispositivi elettronici.
- Rivestimenti ottici: Utilizzato nella deposizione di rivestimenti di alta qualità per lenti, specchi e filtri ottici.
- Ingegneria delle superfici: Migliora la resistenza all'usura e la protezione dalla corrosione di vari componenti industriali.
- Elettronica avanzata: Essenziale per la produzione di componenti di dispositivi elettronici ad alte prestazioni.

Imballaggio dei target di sputtering all'ossido di cerio gadolinio

I nostri target sputtering sono lavorati con precisione e ispezionati meticolosamente per garantire una qualità ottimale. Ogni target è sigillato sotto vuoto in un imballaggio resistente all'umidità e viene spedito in condizioni controllate per mantenere il suo stato incontaminato durante lo stoccaggio e il trasporto. Su richiesta sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate.

Domande frequenti

D: Quali vantaggi offre l'ossido di cerio gadolinio in un target di sputtering?
R: Fornisce una composizione stabile e di elevata purezza che assicura uno sputtering uniforme e una qualità superiore del film sottile per applicazioni avanzate.

D: Le dimensioni di questi target di sputtering sono personalizzabili?
R: Sì, i target sono disponibili in forma di disco standard e possono essere personalizzati per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: Quali sono i settori industriali che possono trarre i maggiori vantaggi dall'utilizzo di questi target di sputtering?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, i rivestimenti ottici, l'elettronica avanzata e l'ingegneria delle superfici possono trarre grandi vantaggi dalle sue elevate prestazioni.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) del materiale influisce sulle sue prestazioni?
R: L'elevata purezza riduce al minimo la contaminazione durante il processo di deposizione, con conseguente aumento dell'uniformità del film e miglioramento delle proprietà elettriche e ottiche.

D: Che ruolo hanno i materiali di adesione nei target di sputtering?
R: I legami con l'indio e l'elastomero garantiscono un montaggio sicuro e una gestione termica efficace durante i processi di sputtering, contribuendo alla stabilità e alle prestazioni complessive del target.