(Fuori produzione) ST0430 Bersaglio di sputtering al lutezio e ferro gallato di bismuto

Descrizione del target di sputtering al lutezio e ferro gallato di bismuto

Il target di sputtering in lutezio e ferro gallato di bismuto è un materiale avanzato progettato per processi di sputtering ad alta efficienza. Prodotto con rigorosi controlli di qualità per garantire un livello di purezza ≥99%, questo target di sputtering è disponibile in forma di disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti applicativi specifici. È stato progettato per facilitare la deposizione uniforme di film sottili in ambienti di produzione ad alta tecnologia, garantendo prestazioni costanti anche in condizioni difficili.

Applicazioni del target di sputtering lutezio-ferro gallato di bismuto

- Produzione elettronica: Essenziale per depositare strati uniformi nella produzione di semiconduttori e circuiti integrati.
- Tecnologia dei display: Utilizzato nella produzione di schermi e dispositivi visivi di alta qualità.
- Celle solari: Facilita la creazione di film sottili per dispositivi fotovoltaici efficienti.
- Fabbricazione di sensori: Consente una stratificazione precisa necessaria per la produzione di vari sensori.

Imballaggio del target di sputtering al lutezio e ferro gallato di bismuto

I nostri target sputtering al lutezio bismuto e ferro gallato sono imballati in modo sicuro per mantenerne l'integrità durante il trasporto. In genere, i target vengono consegnati in involucri protettivi adattati alle loro forme e dimensioni personalizzate, assicurando che raggiungano il cliente in condizioni immacolate.

Domande frequenti

D: Cosa rende il Bismuto Lutezio Ferro Gallato un materiale ideale per i target di sputtering?
R: La sua elevata purezza (≥99%) e la sua composizione robusta consentono la formazione di film sottili coerenti e uniformi, essenziali per le applicazioni di produzione avanzate.

D: Come viene verificata la purezza del target di sputtering?
R: Durante la produzione vengono impiegati rigorosi processi di controllo della qualità e tecniche analitiche avanzate per garantire una purezza costantemente pari o superiore al 99%.

D: Il bersaglio sputtering Bismuto Lutezio Ferro Gallato può essere personalizzato?
R: Sì, il target è disponibile in formati standard a disco o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici di dimensione e forma per diverse applicazioni.

D: Quali settori industriali utilizzano di solito questo target sputtering?
R: È ampiamente utilizzato nella produzione di elettronica, nella tecnologia dei display, nella produzione di celle solari e nella fabbricazione di sensori, grazie alle sue prestazioni affidabili e alla deposizione di film sottili di alta qualità.

D: Come viene imballato il target per evitare danni durante il trasporto?
R: I target sono imballati in modo sicuro in involucri protettivi con soluzioni personalizzate progettate per salvaguardare l'integrità del prodotto durante il trasporto.