ST0426 Bersaglio di sputtering in ferrite di bario (BaFe12O19)

Descrizione del target di sputtering in ferrite di bario (BaFe12O19)

Il target di sputtering in ferrite di bario (BaFe12O19) è progettato per soddisfare le rigorose esigenze della moderna deposizione di film sottili e della fabbricazione di dispositivi magnetici. Sviluppato con BaFe12O19 di elevata purezza e prodotto sotto un rigoroso controllo di qualità, questo target sputtering offre stabilità e prestazioni eccezionali. È particolarmente adatto per le applicazioni in cui l'uniformità e la precisione sono fondamentali, come nella creazione di supporti di registrazione magnetica e assorbitori di microonde. Le robuste proprietà fisiche del target garantiscono prestazioni affidabili durante i processi di sputtering ad alta energia, rendendolo un componente prezioso per le applicazioni industriali avanzate.

Applicazioni del target di sputtering in ferrite di bario (BaFe12O19)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di film sottili magnetici e a microonde di alta qualità nei dispositivi elettronici e di comunicazione.
- Supporti di registrazione magnetica: Utilizzati nella produzione di magneti permanenti e di componenti per l'archiviazione dei dati.
- Dispositivi a microonde: Supporta la produzione di componenti per applicazioni di assorbimento e filtraggio delle microonde.
- Tecnologia dei sensori: Migliora le prestazioni dei sensori e di altri dispositivi elettronici di precisione.

Imballaggio dei target di sputtering in ferrite di bario (BaFe12O19)

I nostri target sputtering in ferrite di bario sono imballati con cura per garantirne l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Ogni target è racchiuso in modo sicuro in un imballaggio protettivo e offriamo soluzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti specifici di spedizione e movimentazione.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering in ferrite di bario (BaFe12O19)?
R: È ampiamente utilizzato nella deposizione di film sottili, nella produzione di supporti di registrazione magnetica, nella fabbricazione di dispositivi a microonde e nella tecnologia dei sensori.

D: Come viene garantita una purezza ≥99% in questo target sputtering?
R: Il nostro processo di produzione incorpora un rigoroso controllo di qualità e tecniche di fabbricazione avanzate per mantenere un livello di purezza ≥99%.

D: Sono disponibili forme o dimensioni personalizzate per questo target di sputtering?
R: Sì, il target può essere prodotto come disco o in forma personalizzata in base alle esigenze del cliente.

D: Che tipo di legante viene utilizzato per la fabbricazione di questo target?
R: Il target di sputtering utilizza legami di indio ed elastomero per garantire stabilità e prestazioni durante la lavorazione.