(Fuori produzione) ST0425 Bersaglio di sputtering al cerio ittrio zirconato di bario

Descrizione del target di sputtering al cerio ittrio bario Zirconato

Il target di sputtering bario cerio ittrio zirconato è prodotto con un ossido ceramico BaCe(1-x-y)Y(x)Zr(y)O3 di elevata purezza, che garantisce un'eccellente consistenza e prestazioni nelle operazioni di sputtering. Progettato per offrire proprietà elettroniche e durata superiori, questo target è ideale per la deposizione di precisione di film sottili e per processi di rivestimento avanzati in una serie di settori high-tech.

Applicazioni del target sputtering al cerio ittrio zirconato di bario

- Deposizione di film sottili: Perfetto per la creazione di film sottili uniformi nei dispositivi a semiconduttore e microelettronici.
- Fabbricazione di semiconduttori: Utilizzato in lavorazioni avanzate per ottenere caratteristiche precise dei film.
- Rivestimenti di superficie: Ideale per rivestimenti ad alte prestazioni in vari strumenti e componenti industriali.
- Ricerca e sviluppo: Supporta le configurazioni sperimentali nella scienza dei materiali e nelle nanotecnologie.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al cerio ittrio bario

I nostri target di sputtering al cerio ittrio zirconato di bario sono imballati meticolosamente per preservare l'integrità del prodotto. Ogni unità è accuratamente sigillata e imbottita per evitare danni durante il trasporto, con opzioni di imballaggio personalizzate disponibili per soddisfare requisiti specifici di spedizione e movimentazione.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali per il target di sputtering al cerio-bario-otturio-zirconato?
R: Viene utilizzato principalmente nella deposizione di film sottili, nella fabbricazione di semiconduttori, nei rivestimenti superficiali avanzati e nella ricerca sui materiali.

D: Quali metodi di sputtering possono essere utilizzati con questo target?
R: Il target è compatibile con le metodologie di sputtering RF e DC.

D: Cosa indica la composizione chimica BaCe(1-x-y)Y(x)Zr(y)O3?
R: Questa composizione rappresenta un ossido ceramico ottimizzato con sostituzioni controllate di cerio, ittrio e zirconio per migliorare le prestazioni di sputtering.

D: Sono disponibili opzioni di personalizzazione per questo target di sputtering?
R: Sì, i target possono essere prodotti come dischi standard o personalizzati per soddisfare requisiti specifici di dimensioni e design.

D: Come viene mantenuta la qualità del target durante la spedizione?
R: I target sono imballati con misure antistatiche e protettive per garantire che non subiscano contaminazioni o danni durante il trasporto.